科罗拉多大学Raj教授在最新发表于Journal of American Ceramics Society上的一篇文章里重新讨论了关于电场对于抑制陶瓷晶粒生长的现象，并提出了唯象方面的解释。抑制陶瓷材料在高温下的晶粒生长一直是一个难题，无论是静态生长还是动态生长，相关的理论都有很多的发展，但是最根本的考虑来说就是晶界处的热力学和动力学两方面考虑。热力学考虑的驱动力问题，和晶界的曲率、组分以及空间电荷层分布都有很大的关系；动力学问题需要考虑物质迁移过程中要跨越的势垒，当然，这个更多地和晶体结构、缺陷化学以及外部场（温度，电，磁等）有直接关系。Raj教授和在印度的同事通过施加直流电场在氧化锆陶瓷上，结果发现陶瓷在高温下长时间退火后晶粒的生长和电场分布有直接的联系：在电场强度大的区域，陶瓷晶粒生长的速率明显要慢了很多。而且这个场强也不是很大，只有4V/cm，所以结果还是蛮吸引人的。

根据陶瓷的烧结理论，晶粒尺寸减小对于陶瓷烧结过程已经塑性变形有很大的影响，比如说尺寸减小一半，烧结速率可以提高16倍，而塑性形变率可以提高8倍。Raj在这篇文章主要探讨的是电场对于静态生长的影响，认为虽然电场对于空间电荷会有很大影响，物质的迁移率也会提高，但是晶界处的局部高温会降低驱动力（表面能），两者综合起来可以解释为什么晶粒生长得到抑制。另一方面，外加电场对于晶格缺陷态的分布会不会有很大的影响，比如说对于带正电的氧空位或者取代位以及晶格间隙位等的迁移有没有直接的作用？对于作者的观点，他们认为这个纳米尺度晶界处的空间电荷层场强高达上万V/cm，相比外加电场来说不在一个数量级上面，所以不应该会有很大的变化。具体到氧化钇稳定氧化锆这个体系来说，钇离子也不会往晶界偏析。

对于氧化锆这种固体氧离子导体材料来说，是否氧气会在电场作用下在晶界处电解出也是一个疑问。这是审稿人对于作者提出机理有效性的质疑，也是审稿人自己对于这种晶粒受抑制现象的思考。文章的作者团队用了整整两段的篇幅来回答审稿人的讨论意见，甚至在文后也没有给出结论，这大概在我读过的文献中是比较少见的现象。从文章来看，作者Raj等人最后也没有完全接受审稿人的建议，而是持有一种开放性的意见。并一再强调界面处的迁移动力学问题应该和热力学驱动力两者同时来讨论，这当然是正确的。虽然这篇文章没有给出很完整的支持证据或者系统的对比试验来印证自己的观点，就实验现象而言是值得同行注目的。我也注意到东京工业大学的若井史博教授（F. Wakai）是这篇文章的投稿编辑，这篇文章显然审稿意见是不理想的，若井教授坚持发表估计也是综合了修改稿后增加的开放式评论，以及他自己本人也很关注晶粒生长现象这个原因。

不过要指出的是，虽然Raj教授文中一再把陶瓷超塑性作为背景来讨论，本文的结果却不是动态晶粒生长的范畴，所以我觉得有些牵强。

审稿人意见在同行评议中占据了很大的作用，我们在投稿中经常会遇到某些审稿人很刁钻的疑问，甚至需要你重新补充实验来支持或者证伪某一个观点。这样的审稿人是很认真的，不是简单让你引用他一篇文章了事。遇到这样长篇幅的评价意见，即便被期刊编辑枪毙掉，你也应该感觉很庆幸。当然，我们遇到更多的是处于高位的审稿人，面对的是批判性的审稿意见，而不是具有交流型的探讨式的评价。作者的答复也往往是歌功颂德式的，对审稿意见不加批判的全盘接受，为了就是文章能够顺利的接受。某些时候，我们这些没有成名的科学工作者往往都要采取妥协的态度来应付审稿人的意见：引用他的文章；高度评价一下他人工作的重要性；柔和一下他的观点；换一个模糊的说法重申自己的结论等等。但是对于成名的科学家，如Raj教授，那么开展正常的学术讨论成为发表的一部分，读这种含有针锋相对观点的文章你能收获更多隐藏在科学结果下面的东西，而不是被动地接受一个观点。

投稿是一个什么样的过程？根据大部分学者来说无疑是一种审判，或者你的观点幸运地被两三个审稿人接受，或者被打入冷宫没法过年。这个时候你要有好的心态，对自己的工作要有足够的信心。没有足够的信心，你只要学会妥协或者屈服，直到达到你发表的目的。不过我常常对自己说的话是，如果自己都对自己工作不满意的话，即便花了心思对潜在审稿人实施了投机性的策略，那么发表出来的工作还不是丢了自己的脸？

史上最有名的关于投稿人和审稿人之间的争论是发生在爱因斯坦身上的。在1937年老爱同志信心波波地往物理评论上投稿阐述引力波的问题，后来某位审稿人回复来的意见写了十页纸，评述引力波的不恰当。老爱在随后写给物理评论主编的信中写道：我是来陈述我的观点的不是受批判的（大意如此）。1937年的老爱，大概是当时物理界the most niubious guy，说出这样的话也没什么奇怪。但是后来才知道这位审稿人是老爱同志在普林斯顿的一位同事（名字忘了，忘博友提醒），这也是佳话。当然，物理评论最终也没有登出这篇文章。

reference

1, Santonu Ghosh, Atul H. Chokshi, Pilhwa Lee and Rishi Raj, 'A Huge Effect of Weak dc Electrical Fields on Grain Growth in Zirconia' J. Am. Ceram. Soc., 2009.

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