[[i]] 刘丽,韦建军,吴卫东,et al.激光诱导化学气相沉积(LCVD)制膜技术[A].Proceedings of 2011 China Functional Materials Technology and Industry Forum(CFMTIF 2011) [C].2011:974-977.
[[ii]] 王锐,李道火,黄永攀,et al. 激光诱导化学气相沉积法制备纳米氮化硅及粉体光谱特性研究[J].硅酸盐通报,2004(3):6-9.
[[iii]] 黄河,朱晓,朱长虹,et al.激光化学气相沉积技术在掩模版修复中的应用[J].激光技术,2007,31(3):330-332.