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纳米图形衬底对AlGaN基深紫外LED中光子输运的影响

已有 1242 次阅读 2021-2-23 10:48 |系统分类:科研笔记


图形化蓝宝石衬底已经在可见光LED领域得到广泛的应用,其优势在于它不仅能有效改善外延生长质量,还可以提高LED的光提取效率。基于先进的半导体仿真设计平台,我司技术人员开发出了纳米图形衬底(NPSS)上的深紫外LEDDUV LED)的计算模型。研究发现:NPSS能够提高DUV LED中横向传播的TM极性光的光提取效率,但会抑制偏向垂直传播的TE极性光的光提取效率(如图1所示)。造成这种现象的原因是,当DUV LED中采用NPSS结构时,NPSS会把部分横向传播的光散射到垂直传播方向,也会把部分垂直传播的光散射到横向传播方向,这些被散射到横向传播方向的光将直接被底部的p-GaN欧姆接触层所吸收。因此在DUV LED中,NPSS对具有不同传播特性的TE极性光和TM极性光会产生完全对立的效果。

 纳米图形沉底-1.png

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为了解决上述问题,并充分利用NPSS的散射效应提高DUV LED的光提取效率,技术人员进一步提出改进措施:即针对具有NPSSDUV LED,建议采用具有图形化p-GaN欧姆接触,从而减少材料的自吸收效应。研究结果表明:NPSS与图形化p-GaN技术的结合可以充分利用NPSS的散射作用,同时提高DUV LEDTM极性光和TE极性光的光提取效率(如图2所示)。该研究成果为进一步推广NPSSDUV LED中的应用提供了强有力的理论支撑。

纳米图形沉底-2.png

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相关文章已发表在Optical Material Express,文章链接:https://doi.org/10.1364/OME.416605

 




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