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2019年京东方的专利状况——显示技术有优势
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2019年中美欧日韩五局发明专利统计报告博客版655.docx
2019年中国、美国、欧洲、日本、韩国五局发明专利统计分析报告（附录第一部分）
中美欧日韩五局专利数据统计分析小组
附录第一部分 2019年中国发明专利各省市区的统计报告
附录2 北京市国家发明专利统计分析报告
附录2.5 北京市部分机构的专利状况
附录2.5.2 京东方科技集团股份有限公司的专利状况
2019年，京东方科技集团股份有限公司获得国家发明专利2375项，比上一年增长了26%，是北京市获得专利数量第2多的机构，位居总体第4名。
从专利技术领域的相对构成上来看，京东方科技集团股份有限公司专利研发的优势领域是：显示展示用品和声学、半导体组件与集成电路、光学和摄影、信息存储、半导体元件。在这5个技术领域上，京东方科技集团股份有限公司的专利份额相对较高，分别占同领域国家专利数量的7.79%到3.55%。
从绝对数量上来看，京东方科技集团股份有限公司的重点技术领域是：光学和摄影、显示展示用品和声学、半导体组件与集成电路、半导体元件、计算机接口。在这5个领域上分别获得了714项至257项专利，数量最多。
可见，京东方科技集团股份有限公司的专利技术研发重点主要集中在光学和显示领域。
附表2.5.2-1 京东方科技集团股份有限公司主要技术领域的专利发展态势
技术领域 | 京东方科技集团股份有限公司 | 整体 | ||||||||
2019 | 2018 | 2015 | 2019 占比 | 增长 率 | 年均 增长 | 增长 率 | 年均 增长 | |||
1 | 显示展示用品和声学 | 556 | 458 | 278 | 7.79% | 21% | 19% | 33% | 13% | |
2 | 半导体组件与集成电路 | 423 | 354 | 186 | 6.74% | 19% | 23% | 15% | 18% | |
3 | 光学和摄影 | 714 | 598 | 556 | 5.62% | 19% | 6% | 21% | 3% | |
4 | 信息存储 | 86 | 75 | 34 | 4.56% | 15% | 26% | 8% | 2% | |
5 | 半导体元件 | 294 | 250 | 131 | 3.55% | 18% | 22% | 9% | 7% | |
6 | 半导体制造 | 247 | 247 | 206 | 3.47% | 0% | 5% | 6% | 6% | |
7 | 计算机接口 | 257 | 237 | 34 | 2.81% | 8% | 66% | 8% | 27% | |
8 | 半导体零配件 | 29 | 25 | 12 | 1.19% | 16% | 25% | 5% | 12% | |
9 | 数据识别 | 84 | 43 | 0 | 1.06% | 95% | -- | 44% | 39% | |
10 | 图像通信 | 57 | 41 | 33 | 0.45% | 39% | 15% | 16% | 21% | |
11 | 材料化学与纳米 | 117 | 68 | 18 | 0.45% | 72% | 60% | 0% | 3% | |
12 | 电热与等离子体 | 27 | 19 | 14 | 0.38% | 42% | 18% | 4% | 11% | |
13 | 纺织、造纸和印刷 | 35 | 15 | 3 | 0.33% | 133% | 85% | -7% | 1% | |
14 | 医学诊断与外科 | 18 | 22 | 2 | 0.31% | -18% | 73% | 1% | 3% | |
15 | 广播和电话 | 18 | 10 | 0 | 0.29% | 80% | -- | 47% | 19% | |
16 | 光电辐射测量与核物理 | 35 | 26 | 14 | 0.28% | 35% | 26% | 15% | 14% | |
17 | 物理测量 | 52 | 40 | 10 | 0.28% | 30% | 51% | 17% | 15% | |
18 | 基本电子电路 | 8 | 5 | 3 | 0.28% | 60% | 28% | -17% | 5% | |
19 | 计算机一般零部件 | 16 | 7 | 0 | 0.27% | 129% | -- | 0% | 16% | |
20 | 一般车辆 | 41 | 12 | 0 | 0.27% | 242% | -- | 5% | 10% | |
注：增长率指2019年的增长率（%），年均增长率指2015-2019的年均复合增长率（%）。2019占比（%）指其在某领域上的专利数量占国家专利在该领域数量的比例。
附图2.5.2-1 京东方科技集团股份有限公司在20个相对优势领域中的专利占比
致谢
感谢大连理工大学刘则渊教授、河南师范大学梁立明教授、科技部中国科学技术发展战略研究院武夷山研究员对本报告的支持、帮助、建议和意见。同时也感谢对本报告做出贡献的一些审阅者和讨论者，包括武汉大学张琳教授、武汉大学黄颖副教授等学者。
https://blog.sciencenet.cn/blog-681765-1231083.html
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