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[转载]第二届先进半导体器件与集成技术国际学术会议(ASDIT 2026)

已有 87 次阅读 2026-6-24 14:27 |个人分类:学术会议|系统分类:博客资讯|文章来源:转载

第二届先进半导体器件与集成技术国际学术会议(ASDIT 2026)2026 2nd International Conference on Advanced Semiconductor Devices and Integration Technology

会议已上线江南大学集成电路学院官网

请点击【论文投稿/报名参会】

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会议信息

会议官网:www.asdit.org

会议时间:2026年8月28-30日

会议地点:中国-江苏-无锡

发表流程:【投稿】→审稿返修→录用→缴费→【注册参会】→见刊→纸质论文集→检索;

论文检索:EI, Scopus

会议简介

  第二届先进半导体器件与集成技术国际学术会议(ASDIT 2026)将于2026年8月28-30日在中国江苏无锡举办。本次会议旨在汇聚全球半导体领域的顶尖学者、行业专家和企业领袖,共同探讨最新的研究成果和技术进展。会议将涵盖先进半导体器件的设计、制造、材料及其在各类应用中的创新,包括人工智能、量子计算和5G通信等前沿科技。与会者将有机会参加主题演讲、专题讨论和技术展示,深入了解行业动态,分享前沿经验。

        我们诚邀全球的专家学者参与此次盛会,共同推动半导体技术的进步与发展。期待与您相聚无锡,共同探索未来科技的无限可能!

请点击【论文投稿/报名参会】

组织单位

主办单位江南大学
承办单位

江南大学集成电路学院

江南大学理学院

无锡市第三代半导体器件与集成技术重点实验室

江南大学-康讯半导体联合实验室

征稿主题

半导体器件集成技术
新型半导体材料及其在器件中的应用

高性能MOSFET设计与优化

能耗效率优化的功率器件技术

超越硅的III-V族化合物半导体器件

微光电半导体传感器及其应用

半导体激光器及其新兴应用领域

石墨烯和其他二维材料器件

量子点和量子阱半导体器件

新型存储器器件:RRAM, MRAM, FeRAM

低温电子器件的挑战与机遇

高频和高功率器件的突破性技术

硅基光电子器件及其集成技术

隧穿场效应晶体管(TFET)器件研究

半导体器件的可靠性与老化机制

先进封装和互连结构对器件性能的影响

......

三维集成电路及其制造工艺

片上系统(SoC)与集成方法

芯片异构集成技术

封装级集成技术的发展与创新

集成电路中的热管理技术

射频集成电路及其设计优化

人工智能与机器学习在集成电路设计中的应用

先进模拟与混合信号集成电路

电源管理集成电路技术

集成电路设计中的可靠性与安全挑战

硅光子学互连技术

超大规模集成技术的最新进展

新兴存储器集成技术

模块化MEMS与NEMS的集成应用

智能传感系统的集成与创新

......

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会议议程

日期时间活动
8月28日14:00-18:00签到注册
8月29日9:00-12:00主题报告
12:00-14:00午饭
14:00-18:00主题报告&口头汇报
18:00-20:00晚宴
8月30日9:00-18:00学术考察活动

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参会方式

1、作者参会:一篇录用文章允许一名作者免费参会;

2、主讲嘉宾:申请主题演讲,由组委会审核;

3、口头演讲:申请口头报告,时间为15分钟,摘要投稿可申请;

4、海报展示:申请海报展示,A1尺寸,彩色打印;

5、听众参会:不投稿仅参会,也可申请演讲及展示。

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