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第一次出国参加学术会议就登上国外报纸
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1978年改革开放以后, 在1980年前后学校中很多老师纷纷出国留学、访问、开会成风. 而我手中的低压化学气相淀积(low pressure Chemical Vapor Deposition, 简称LPCVD)科研项目正好打开局面, 并积极向工厂做技术推广工作. 一直到1985年才能腾出时间第一次去瑞典,乌普萨拉,6月参加第5届欧洲化学气相淀积(CVD)会议(The Fifth European Conference on Chemical Vapor Deposition, June 17-20, 1985, Uppsala, Sweden).
第一次到国外, 一切都是新鲜的. 顾不得欣赏美景, 一心埋头在会议中. 第一件事就是通览论文摘要集, 了解相近的学术论文. 我的报告(作者: 王季陶, 张世理和王永发)是一篇15分钟的oral报告. 在我报告前还有一篇美国学者的半小时特邀报告(invited), 题目是CVD反应器的大规模有限元的理论模拟. 事实上内容却非常相近, 也是LPCVD的计算机模拟, 不同的是他采用的是数学拟合方法. 整个半小时, 他详细地介绍了这项LPCVD集成电路新工艺的优越性和理论模拟的学术意义. 然后他介绍具体工作, 他特别强调用了一台 “very huge computer”, “several months for calculating one line”, 最后才展示了一张理论曲线和实验对比图, 这样就给人们留下很深的印象: 他的工作是一项很有价值的艰难理论工作.
我立即思考自己的15分钟口头报告如何做? 语言方面肯定远远不及美国人的母语. 按照往常的前言介绍已经完全没有必要了. 因此立即确定把整个报告的内容颠倒过来(幻灯片次序调整), 先报告结果: 即汇报理论和实验对比图, 然后再介绍理论计算的原理和公式. 报告时, 介绍了题目以后, 我立即打开一张又一张理论和实验对比图的幻灯片, 大约一共有十一张, 包含了约二十多条理论模拟曲线. 没有想到我刚刚按下三、四张幻灯片, 才介绍了将几条理论模拟曲线和实验对比图并且符合很好时. 台下就有人不经过会议主持人就直接插话喊道: “How huge computer you used?” 我回答: “Apple II.” 因为苹果II机在当时也是最普通的小型机, 全场上近百人一片惊叹, 马上又有人高喊: “How long time for calculating one line?” 我回答: “A few minutes.” 全场上更形成了轰动效应. 因为大家都清楚地知道和前面报告中的“very huge computer”, “several months for calculating one line”作对比. 而且理论是我们提出的, 而实验数据又是文献上公开报道的, 两者符合情况良好. 然后我继续介绍其余的一批理论模拟曲线和实验对比图, 并介绍了我们计算机模拟的化学动力学模型, 清晰的物理思想和推导得到的定量循环递推计算公式. 很快15分钟就结束了. 当我结束报告走下讲台回到座位时, 两旁立即热情伸出手来握手, 纷纷祝贺: “Congratulation!”. 我带去交流用的英文版论文选(见后)也很受欢迎. 并交结了不少国外的友人.
会后会议主席J.-O. Carlsson 就安排了四人(主席, 一位美国学者, 一位欧洲学者和我)会见记者. 第二天刊登在当地的Uppsala News 报纸上占据约8K的版面作这一学术会议报道和介绍, 同时还包含了会见记者时约6-8吋的照片并注明照片中各人的姓名(包括瑞典文王季陶来自中国“Ji-Tao Wang fråm Kina”的字样), 见图1.
我们的这篇论文后来就发表在[J.-T. Wang, S.-L. Zhang, Y.-F. Wang: “Theoretical model of LPCVD thickness distribution and comparison between model and experiments”. Solid-State Electronics, 29(10), 999-11004 (1986)]. 被同行学者尊称为 “Sir CVD”的Dr. J. Blocher也参加了这次第五届欧洲CVD会议. 两年后, 1987年在夏威夷召开第10届国际CVD会议时, Blocher博士就作为会议主席邀请我作特邀报告invited speaker 的邀请函. 还有国外友人来信说, 在教学中他也采用了我们的理论模型等. 这些都是后话了.
第一次出国参加国外学术交流会议就遇到这样的机遇肯定是我的幸运. 这一张合照也是我迄今唯一的登上报纸的照片, 却登载在国外报纸上. 幸运的背后必须付出努力和认真的准备. 为了做好准备工作, 会前也忙了几个月. 对当时的情况现在可能很难想象, 就说准备交流已经发表的学术论文吧. 连参加国际会议的论文都要经过校党委办公室的保密审查. 因此此前的论文都发表在国内杂志上, 包括国内最高级别的中国科学(中英文版). 为了国际学术交流, 准备携带1980年在半导体学报创刊号上和1983年在中国科学(中英文版)上发表的相关”LPCVD计算机模拟”等论文复印件. 结果也被告知根据上海市保密局规定只能带正式出版物的原件不可以带复印件(据说海关检查时通不过), 更不要说携带中文论文的英文翻译本. 没有办法, 只能联系了复旦大学出版社, 得到社长陈树乔老师的大力支持. 为了赶时间由我们用英文打字机打印后影印出版一共140页, 封面见图2.
现在连在读的研究生有时也会到国外参加国际会议, 相应的机遇就更多了, 一定要好好珍惜. 学术会议就是”以文会友”, 既是学习的大好机会, 也是展示研究成果交流的大好机遇. 最后归结为一句话: 认真参加每一次学术会议. 祝各位取得更大的成功!
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