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Supranano multi-precipitate balances comprehensive properties in amorphous soft magnetic composites
文章导读
软磁复合材料(SMCs)是高频磁性器件中的重要功能材料,其饱和磁感、磁导率和磁损耗对器件功效至关重要。然而,这三个性能指标通常失衡,协同优化面临较大挑战。为此,本文采用Ar/O₂等离子体对FeSiBC非晶合金粉末进行表面可控改性,在粉末表层构筑由α-Fe、Fe₃O₄、SiO₂和Fe₂O₃组成的超纳多相壳层。研究发现,超纳多相能够促进磁矩翻转,将SMCs的矫顽力Hc降至0.13 Oe(文献报道的极低值)。这导致SMCs有效磁导率达37.3、饱和磁感185 emu g-1、且在1 MHz、20 mT下实现191.18 kW m-3的超低磁损耗,破解了高频SMCs性能失衡瓶颈。
关键词:软磁复合材料;铁基非晶合金;超纳相;等离子体处理
Citation: Jiwei Lv, Zhicheng He, Weisi Cai, Hongwei Ma, Tao Song, Pengxu Li, Luoxuan Hu, Haibo Ke, Liuzhang Ouyang, Min Zhu, Weihua Wang, Chao Yang. Supranano multi-precipitate balances comprehensive properties in amorphous soft magnetic composites[J]. Materials Futures. DOI: 10.1088/2752-5724/ae9d2e
文章亮点
提出等离子体可控改性铁基非晶粉末诱导超纳多相的新思路。
揭示超纳多相形成机制及其超低矫顽力诱导机制,以及高频软磁材料性能失衡瓶颈的破解机制。
提供了一种适用于工业常规冷压技术制备高频软磁材料的新工艺。

研究背景
SMCs因其优异的软磁性能,在高频电力电子器件领域备受关注。铁基非晶合金由于其固有的低矫顽力和低铁芯损耗,前景尤为广阔。然而,如何同时平衡有效磁导率、铁芯损耗及饱和磁化强度仍是一大挑战,这限制了非晶SMCs在微型化、高频及高效率电力电子器件中的应用。非晶粉末的变形性较差,在压制过程中不可避免地会产生内部气隙,以及在高压力下产生内应力和磁畴钉扎点,从而增加Hc和磁滞损耗。传统纳米晶化可通过控制纳米晶体的尺寸和分布来部分改善磁性能。然而,采用这种方法很难在多种磁性能之间保持理想的平衡。因此,对于非晶SMCs而言,开发一种简单而有效的微观结构策略,以同时实现高磁导率、高饱和磁化强度和低铁芯损耗,具有极高的必要性。
本文要点
1. 超纳多相形成机制
本研究中,Ar和O₂等离子体提供高能离子和活性电子,其能量远高于Fe–Fe、Fe–Si、Fe–C及Fe–B原子键能,可优先破坏团簇界面的弱键并激发原子,促进Si、Fe等元素与活性氧反应。根据第一性原理计算和吉布斯自由能,首先形成Fe₂O₃和Fe₃O₄ (图1a),随后形成SiO₂,氧化物作为异质形核位点促进α-Fe析出。然而,等离子体轰击持续时间仅约1 μs,原子缺乏长程扩散条件,使析出相难以进一步长大,最终形成由Fe₂O₃、Fe₃O₄、SiO₂和α-Fe组成的约28nm厚超纳多相壳层(图1b-d)。对比实验进一步表明,O₂活性气氛是超纳多相形成的关键,仅Ar等离子体无法诱导析出相。

图1.第一性原理计算和透射表征:(a)SiO2,Fe2O3和Fe3O4的模型示意图和形成能。(b)高分辨透射图以及(c)对应的傅里叶变换和(d)反傅里叶变换。
2. 超低矫顽力诱导机制
本研究通过三维微磁学模拟揭示了超纳多析出相结构降低Hc的微观机制。模拟结果表明,超纳多相结构的Hc仅为0.13 Oe,显著低于FeSiBC非晶合金的12.52 Oe;同时,超纳α-Fe析出相有利于提高饱和磁化强度。磁矩翻转过程显示(图2a-d),非晶合金中的磁矩主要从边缘开始翻转(图2d),并依靠交换耦合逐渐向内部传播,完成翻转需要26 ns。相比之下(图2e-h),超纳多相可作为磁矩翻转的优先形核位点(图2h2),使边缘与内部区域几乎同步发生翻转,并通过交换耦合作用进一步促进磁矩翻转。由于α-Fe、Fe₃O₄、SiO₂和Fe₂O₃超纳多相之间的协同作用,磁矩完全翻转时间由26 ns缩短至23 ns,从而显著降低磁矩翻转能垒和阻力,最终SMC45展现出超低Hc。

图2. 3D磁矩模拟图:(a,e)磁矩和相概念示意图。(b,c,f,g)非晶合金和超纳多相组织在3T外场下的3D磁矩图。(d,h)沿着yc截面在不同时间下对应的2D磁矩图。
3. 性能失衡破解机制
基于Herzer关系,软磁材料的Hc和初始磁导率(μi)与平均磁各向异性常数〈K〉密切相关。SMC45中0.8–2.5 nm的超纳多相尺寸远小于传统α-Fe纳米晶,同时SiO₂、Fe₂O₃、Fe₃O₄和α-Fe具有较低的磁晶各向异性常数,有效降低〈K〉,从而实现超低Hc(图3d,e)和高有效磁导率37.3(图3a),低的总损耗191.18 kW·m⁻³(图3b)。此外,α-Fe的析出提高了饱和磁化强度(图3c)。与报道过的非晶纳米晶软磁复合材料相比,本研究中的软磁复合材料表现出优异的综合软磁性能(图3f,g)

图3.软磁复合材料的软磁性能:不同等离子处理时长的软磁复合材料的有效磁导率(a),磁损耗(b),饱和磁化强度(c),矫顽力(d)。(e)当前工作的矫顽力与报道过的非晶/纳米晶软磁复合材料对比图。当前工作与报道过的非晶/纳米晶软磁复合材料的磁导率-损耗对比图(f)与饱和磁化强度-磁导率对比图(g)。
总结与未来展望
本研究采用Ar/O₂等离子体处理FeSiBC非晶合金粉末,并结合传统冷压成型,成功构筑了超纳多相壳层,该结构显著促进磁矩翻转,实现超低Hc(0.13 Oe),并兼顾高有效磁导率(37.3)和超低损耗(191.18 kW·m⁻³,1 MHz、20 mT),综合性能优于典型非晶及纳米晶软磁复合材料。未来,等离子体技术有望拓展至等离子体辅助球磨,并与现有粉末加工工艺及工业化设备结合,实现规模化制备,为高频电感及高频电力电子器件提供新的材料与工艺路径。
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