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环境催化| 纳米颗粒-溶液相合成法| 化学机械抛光| 理论知识| 文献学习| 化工设备| 半导体制造|

置顶 · 浅槽隔离工艺（STI）: 2024-6-15 22:01; CMP可应用于半导体器件制造的前道工艺(FEOL)，中道工艺(MOL)后道工艺(BEOL)。EOL阶段CMP的重要工艺是浅沟槽隔离(STI)，MOL阶段CMP的重要工艺是钨接触层抛光和层间介质(ILD)抛光工艺，在 BEOL 阶段 CMP，Cu、TaN/Ta 或其他线的去除工艺很重要。今天我们着重介绍的是浅沟槽隔离工艺 STI（shallow trench isolation）。STI ...; 个人分类: 化学机械抛光|2504 次阅读|没有评论

X射线“吸收光谱“知识（一）: 黄振鹏 2020-5-10 20:05; X 射线“吸收光谱“知识随着同步辐射光源的建造，X射线吸收谱学方法（XAS）得到了前所未有的发展，在物质结构表征（包括原子结构及电子结构等）、理化性能解释（比如单原子催化剂位点研究、In-situ/operando测试等）都发挥着越来越重要的作用，前沿 ...; 个人分类: 理论知识|24931 次阅读|没有评论

学术型PPT的制作: 黄振鹏 2020-5-7 14:58; 学术型PPT，其更偏向为阅读型PPT。不同于演讲型PPT那种往往只放一张高清大图，上配几个大字的简约形式，学术型PPT应首先保证内容严谨，逻辑清晰，然后在此基础上追求美观大方，最终起到辅助演讲者传播知识，让观众更好地理解学术内容的作用。因此，本文第一部分从学术型PPT内容的严谨及 ...; 个人分类: 化学机械抛光|5341 次阅读|没有评论

负载型催化剂中表/界面位置处的的TOF计算: 黄振鹏 2020-4-29 16:28; 思考：平时我们通过化学吸附或滴定测试分散度，再计算其活性位数目。这里就存在两个问题：1通过化学吸附计算分散度，我们默认假设了暴露出的金属原子就是反应活性位，这个其实并不严谨，顶多就是金属颗粒表面与所选取探针气体分子具有一定的化学吸附；2假设所暴露出的金属原子都是活性位，这些处于不同位置的金属原 ...; 个人分类: 环境催化|5536 次阅读|没有评论

论文赏析-构建多级界面的PtFe-FeOx/TiO2结构: 黄振鹏 2020-4-28 18:26; 总结：一个很有意思的工作，首先通过油胺法合成PtFe的纳米线，再将其组装在常见的载体TiO2,通过简单的低温焙烧，构建了具有协同作用两个界面PtFe-FeOx和PtFe-TiO2，同时展现了优异的CO低温氧化和较好的耐久性，更令人眼前一亮的是通过同位素标记实验，阐明了两个界面的反应机理。通过这篇文章，我们也可以 ...; 个人分类: 环境催化|2028 次阅读|没有评论

[转载]同济大学关小红教授云端课程“规范的科研表达”录播视频分享: 黄振鹏 2020-4-28 09:24; 课程主题：规范的科研表达-那些你会忽略的细节 https://mp.weixin.qq.com/s/5fBcudB0SoCmQWWMLck5vA; 个人分类: 纳米颗粒-溶液相合成法|2403 次阅读|没有评论

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