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GeSi纳米线中的电子输运

已有 2485 次阅读 2013-11-18 20:44 |个人分类:文献阅读笔记|系统分类:科研笔记

半导体的热电系数由品质因子ZT=S2eT描述。文章分析了掺杂Ge位置和溶度对NW的zero-bias transmission的影响来分析其热电性能。

结果表明:替位掺杂几乎不影响T-ε关系,而间隙掺杂则会大幅降低T。但是由于间隙掺杂的形成能比替位掺杂的形成能高3.2-3.7 eV,间隙掺杂几乎不出现。而且散射在价带更大。此外,低溶度时,电导很高;随着溶度升高,电导下降;继续增加溶度,由于形成突变结,散射主要发生在界面,电导又增大。

所用计算软件:Siesta

Starting from version 3.0, SIESTA includes the TranSIESTA module, which provides the ability to model open-boundary systems where ballistic electron transport is taking place. Using TranSIESTA one can compute electronic transport properties, such as the zero-bias conductance and the I-V characteristic, of a nanoscale system in contact with two electrodes at different electrochemical potentials.(摘自http://departments.icmab.es/leem/siesta/About/overview.html

文献:Amato, M.; Ossicini, S.; Rurali, R., Electron transport in SiGe alloy nanowires in the ballistic regime from first-principles. Nano letters 2012, 12 (6), 2717-21.



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