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█武汉大学科教管理与评价研究中心 陈立新 张琳 黄颖
2021年,韩国知识产权局在半导体器件(H01L)小类上共授权专利12645项,占总授权量的9%,是专利数量第1多的小类。
2021年,在半导体器件(H01L)小类上获得韩国专利授权数量最多的机构是三星电子公司(通信及半导体电子产品)、三星显示公司(显示器)、细美事公司(光刻等半导体设备)。
另外,LG显示公司(显示器)、半导体能源研究所(光电与半导体材料)、台湾积体电路制造公司(半导体制造及代工)、东京电子株式会社(半导体制造设备)、LG化学公司(化学及材料产品)、应用材料公司(半导体设备及材料)、LG伊诺特公司(光学及电子器件)也获得了较多的韩国专利。
表41.1-1 2021年半导体器件(H01L)类专利授权前10机构
机构名称 | 国家 | 机构英文名称 | 专利 | |
1 | 三星电子公司 | 韩国 | SAMSUNG ELECTRONICS CO., LTD. | 908 |
2 | 三星显示公司 | 韩国 | SAMSUNG DISPLAY CO., LTD. | 845 |
3 | 细美事公司 | 韩国 | SEMES CO., LTD. | 707 |
4 | LG显示公司 | 韩国 | LG DISPLAY CO., LTD. | 700 |
5 | 半导体能源研究所 | 日本 | SEMICONDUCTOR ENERGY LABORATORY CO., LTD. | 444 |
6 | 台湾积体电路制造公司 | 中国 | TAIWAN SEMICONDUCTOR MANUFACTURING CO., LTD. | 418 |
7 | 东京电子株式会社 | 日本 | TOKYO ELECTRON LIMITED | 383 |
8 | LG化学公司 | 韩国 | LG CHEM, LTD. | 373 |
9 | 应用材料公司 | 美国 | APPLIED MATERIALS, INC. | 322 |
10 | LG伊诺特公司 | 韩国 | LG INNOTEK CO., LTD. | 209 |
注:本表数据按照第一申请人进行统计。
图41.1-1 2021年半导体器件(H01L)类韩国授权专利前10机构
感谢大连理工大学刘则渊教授、河南师范大学梁立明教授、科技部中国科学技术发展战略研究院武夷山研究员、大连理工大学丁堃教授、大连理工大学杨中楷教授对本报告的大力支持与帮助。同时,向以不同形式对本报告提出意见和建议的专家学者们表示诚挚的感谢。
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