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2021年美国局光学和摄影领域的专利竞争态势——佳能、三星显示、三星电子领先，国内京东方领先
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█武汉大学科教管理与评价研究中心 陈立新 张琳 黄颖
第二部分 2021年美国发明专利统计分析报告
17 不同技术领域下世界各国及机构的在美专利布局和竞争
17.24 光学和摄影领域的专利竞争态势
第24个技术领域是光学和摄影，主要包括光学元件、眼镜、照相器材和感光材料。2021年，美国专利商标局在该领域共授权专利17748项（增长率为-19%），占总授权量的5.4%，是专利数量第7多的领域。
2021年，美国在该领域获得专利权5353项，占该领域专利授权总量的26%。中国在该领域做出专利发明1858项，获得专利权1850项，流失专利发明8项。日本和韩国获得的专利权数量分别为5517和1537项。
表17.24-1 2021年各国光学和摄影领域的在美专利发明和专利权数量
国家 和地区 | 发明 数量 | 专利权 数量 | 净流失 数量 | 专利 流失率 | 发明 份额 | 专利权 份额 | 份额 流失量 | |
1 | 美国 | 5144 | 5353 | -209 | -4.1% | 29.0% | 30.2% | -1.2% |
2 | 日本 | 5531 | 5517 | 14 | 0.3% | 31.2% | 31.1% | 0.1% |
3 | 韩国 | 1532 | 1537 | -5 | -0.3% | 8.6% | 8.7% | 0.0% |
4 | 中国 | 1858 | 1850 | 8 | 0.4% | 10.5% | 10.4% | 0.0% |
5 | 德国 | 579 | 545 | 34 | 5.9% | 3.3% | 3.1% | 0.2% |
6 | 法国 | 222 | 222 | 0 | 0.0% | 1.3% | 1.3% | 0.0% |
7 | 加拿大 | 227 | 117 | 110 | 48.5% | 1.3% | 0.7% | 0.6% |
8 | 英国 | 226 | 178 | 48 | 21.2% | 1.3% | 1.0% | 0.3% |
9 | 瑞士 | 83 | 119 | -36 | -43.4% | 0.5% | 0.7% | -0.2% |
10 | 荷兰 | 306 | 380 | -74 | -24.2% | 1.7% | 2.1% | -0.4% |
11 | 瑞典 | 42 | 51 | -9 | -21.4% | 0.2% | 0.3% | -0.1% |
12 | 以色列 | 231 | 146 | 85 | 36.8% | 1.3% | 0.8% | 0.5% |
13 | 意大利 | 57 | 58 | -1 | -1.8% | 0.3% | 0.3% | 0.0% |
14 | 印度 | 64 | 22 | 42 | 65.6% | 0.4% | 0.1% | 0.2% |
15 | 其他 | 1646 | 1653 | -7 | -0.4% | 9.3% | 9.3% | 0.0% |
小计 | 17748 | 17748 | 0 | 0% | 100% | 100% | 0% |
图17.24-1 2021年各国光学和摄影领域的在美专利发明和专利权数量对比
2021年，在光学和摄影领域上获得美国专利授权最多的机构是佳能株式会社、三星显示公司、三星电子公司。中国专利最多的机构是京东方科技集团公司，获得323项专利。
表17.24-2 2021年光学和摄影领域在美专利授权前10机构
机构名称 | 国家 | 机构英文名称 | 2021 | 2020 | |
1 | 佳能株式会社 | 日本 | CANON KABUSHIKI KAISHA | 1058 | 1200 |
2 | 三星显示公司 | 韩国 | SAMSUNG DISPLAY CO., LTD. | 412 | 499 |
3 | 三星电子公司 | 韩国 | SAMSUNG ELECTRONICS CO., LTD. | 353 | 382 |
4 | 菲丝博克科技有限责任公司 | 美国 | FACEBOOK TECHNOLOGIES, LLC | 337 | 287 |
5 | 京东方科技集团公司 | 中国 | BOE TECHNOLOGY GROUP CO., LTD. | 323 | 667 |
6 | 富士胶片公司 | 日本 | FUJIFILM CORPORATION | 256 | 338 |
7 | 夏普株式会社 | 日本 | SHARP KABUSHIKI KAISHA | 250 | 362 |
8 | 台湾积体电路制造公司 | 中国 | TAIWAN SEMICONDUCTOR MANUFACTURING COMPANY, LTD. | 238 | 232 |
9 | 精工爱普生公司 | 日本 | SEIKO EPSON CORPORATION | 237 | 283 |
10 | 阿斯麦荷兰公司 | 荷兰 | ASML NETHERLANDS B.V. | 221 | 252 |
注：本表数据按照第一权利人进行统计。
图17.24-2 2021年光学和摄影领域在美专利授权前10机构
致谢
感谢大连理工大学刘则渊教授、河南师范大学梁立明教授、科技部中国科学技术发展战略研究院武夷山研究员、大连理工大学丁堃教授、大连理工大学杨中楷教授对本报告的大力支持与帮助。同时，向以不同形式对本报告提出意见和建议的专家学者们表示诚挚的感谢。
如需要中美欧日韩五局及PCT专利数据、专利报告，以及咨询相关专利问题请添加微信号。
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