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2020年积水化学工业株式会社的日本局专利状况——重点布局建筑和采矿、成型加工作业、有机高分子化合物技术
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█武汉大学科教管理与评价研究中心 陈立新 张琳 黄颖
第四部分 2020年日本发明专利统计分析报告
36 世界主要机构的日本专利布局
36.49 积水化学工业株式会社的日本专利状况
2020年，积水化学工业株式会社（日本企业，主营高机能塑料及半导体材料，其英文名称为SEKISUI CHEMICAL CO.,LTD.）获得日本局发明专利486项，比上一年增长了3%，是获得日本局专利授权数量第49多的机构。
相对来讲，积水化学工业株式会社专利研发的优势领域是：建筑和采矿、有机高分子化合物、化工、一般机械和武器、电气元件和结构部件。在这5个技术领域上，积水化学工业株式会社的专利份额相对较高，分别占同领域日本局专利数量的1.5%至0.8%。
从绝对数量上来看，积水化学工业株式会社的重点技术领域是：建筑和采矿、成型加工作业、有机高分子化合物、化工、电气元件和结构部件。在这5个领域上获得了数量最多的日本局专利，达119至74项。
可见，积水化学工业株式会社的专利技术研发和专利布局重点主要集中在建筑和采矿领域。
表36.49-1 2020年积水化学工业株式会社主要技术领域的专利分布
技术领域 | 专利数量 | 占比（%） | |
1 | 建筑和采矿 | 119 | 1.5% |
2 | 有机高分子化合物 | 105 | 1.4% |
3 | 化工 | 77 | 1.0% |
4 | 一般机械和武器 | 74 | 1.0% |
5 | 电气元件和结构部件 | 74 | 0.8% |
6 | 成型加工作业 | 119 | 0.7% |
7 | 材料化学与纳米 | 59 | 0.6% |
8 | 电池 | 30 | 0.6% |
9 | 半导体零配件 | 9 | 0.5% |
10 | 生物化学 | 21 | 0.5% |
11 | 发电和输变电 | 33 | 0.4% |
12 | 电热与等离子体 | 26 | 0.4% |
13 | 半导体元件 | 21 | 0.4% |
14 | 半导体组件与集成电路 | 11 | 0.3% |
15 | 分离和混合加工作业 | 17 | 0.3% |
16 | 光学和摄影 | 25 | 0.2% |
17 | 半导体制造 | 11 | 0.2% |
18 | 电子商务和管理系统 | 9 | 0.2% |
19 | 有机化学 | 9 | 0.2% |
20 | 物理测量 | 10 | 0.2% |
图36.49-1 2020年积水化学工业株式会社在20个相对优势领域中的专利占比
致谢
感谢大连理工大学刘则渊教授、河南师范大学梁立明教授、科技部中国科学技术发展战略研究院武夷山研究员、大连理工大学丁堃教授、大连理工大学杨中楷教授对本报告的大力支持与帮助。同时，向以不同形式对本报告提出意见和建议的专家学者们表示诚挚的感谢。
https://blog.sciencenet.cn/blog-681765-1349907.html
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