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陈立新 张琳 黄颖:中美欧日韩五局专利报告2263.docx
█武汉大学科教管理与评价研究中心 陈立新 张琳 黄颖
2020年,日本专利局在半导体器件(H01L)小类上共授权专利11530项,占总授权量的6.4%,是专利数量第1多的小类。2018年,该小类的专利授权数量为13613项,2015年为14512项,可见近年来专利数量下降较多。2020年该小类的专利数量增长率为-3.6%,2015-2020年的平均增长率为-4.5%。
2020年,在半导体器件(H01L)小类上获得日本专利授权数量最多的公司是日本半导体能源研究所,其次是东京电子株式会社、三菱电机株式会社。
表34.2-1 2019-2020年日本局数据处理(H01L)类专利前10机构
机构名称 | 国家 | 机构英文名称 | 2020 | 2019 | 增长率 | |
1 | 日本半导体能源研究所 | 日本 | Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. | 662 | 761 | -13% |
2 | 东京电子株式会社 | 日本 | Tokyo Electron Limited | 391 | 379 | 3% |
3 | 三菱电机株式会社 | 日本 | Mitsubishi Electric Corporation | 326 | 295 | 11% |
4 | 株式会社迪思科 | 日本 | DISCO CORPORATION | 297 | 270 | 10% |
5 | 佳能株式会社 | 日本 | CANON INC. | 264 | 227 | 16% |
6 | 日亚化学工业株式会社 | 日本 | Nichia Corporation | 209 | 242 | -14% |
7 | 富士电机株式会社 | 日本 | FUJI ELECTRIC CO., LTD. | 201 | 162 | 24% |
8 | 松下知识产权经营株式会社 | 日本 | Panasonic Intellectual Property Management Co., Ltd. | 179 | 266 | -33% |
9 | 株式会社斯库林集团 | 日本 | SCREEN Holdings Co., Ltd. | 179 | 188 | -5% |
10 | 应用材料公司 | 美国 | Applied Materials Incorporated | 176 | 148 | 19% |
注:本表数据按照第一权利人进行统计。
图34.1-1 2020年半导体器件(H01L)类日本授权专利前10机构
感谢河南师范大学梁立明教授、科技部中国科学技术发展战略研究院武夷山研究员、大连理工大学丁堃教授对本报告的大力支持与帮助。同时,向以不同形式对本报告提出意见和建议的专家学者们表示诚挚的感谢。
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