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2020年日本在美专专利发明的技术领域分布状况——打印、光学、电池、材料、半导体技术有优势

已有 1363 次阅读 2021-11-10 16:36 |系统分类:博客资讯

陈立新 张琳 黄颖:中美欧日韩五局专利报告1781.docx

武汉大学科教管理与评价研究中心 陈立新 张琳 黄颖

第二部分 2020年美国发明专利统计分析报告

16 世界主要国家在美专利的技术领域分布与竞争状况

16.1 主要国家在美专利发明的技术领域分布情况

16.1.3  日本在美专利发明的技术领域分布状况与竞争态势

日本最具优势的领域是纺织造纸和印刷、光学和摄影、电池、图像通信、一般车辆、有机高分子化合物、电气元件和结构部件、材料化学与纳米、发电和输变电、半导体组件与集成电路、半导体元件、半导体制造、成型加工作业、半导体零配件。在这14个领域,日本的专利发明数量所占比例超过20%

日本相对劣势的技术领域包括数据传输控制程序、数据传输控制协议、医学治疗和护理、铁路船舶和飞行器、数据交换网络、电子商务和管理系统、药物和家庭日用化学品、建筑和采矿、计算机应用与软件工程、计算机体系架构、控制器和运算器(CPU)、农业和食品、计算机安全。在这13个领域,日本的专利发明数量所占比例低于6%。可见,日本的专利发明主要分布在电子电气技术和材料技术方面,而在通信技术、医药技术、计算机技术等方面相对弱一些。

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16.1.3-1  2020年日本的专利发明在54个技术领域的占比(按发明人统计)

 

 

 

 

致谢

感谢河南师范大学梁立明教授、科技部中国科学技术发展战略研究院武夷山研究员、大连理工大学丁堃教授对本报告的大力支持与帮助。同时,向以不同形式对本报告提出意见和建议的专家学者们表示诚挚的感谢。

 




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