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陈立新 张琳 黄颖:中美欧日韩五局专利报告1508.docx █武汉大学科教管理与评价研究中心
第24个技术领域是光学和摄影,主要包括光学元件、眼镜、照相器材和感光材料。
图8.24-1 光学和摄影领域的中国局专利增长情况
2020年,中国局在光学和摄影领域上的专利授权增长7%,达到13603项,占总授权量的3%,该领域是专利数量第25多的技术领域。近年来,光学和摄影领域的专利增长较快,但波动较大。
表8.24-1 2020年各国光学和摄影领域的中国局专利数量
国家 | 专利数量 | 专利份额 | 技术构成比重 | |
1 | 中国 | 7640 | 56% | 2% |
2 | 日本 | 2862 | 21% | 10% |
3 | 美国 | 719 | 5% | 3% |
4 | 德国 | 163 | 1% | 2% |
5 | 韩国 | 622 | 5% | 7% |
6 | 法国 | 111 | 1% | 4% |
7 | 瑞士 | 43 | 0% | 2% |
8 | 荷兰 | 162 | 1% | 8% |
9 | 瑞典 | 19 | 0% | 1% |
10 | 英国 | 36 | 0% | 3% |
11 | 意大利 | 23 | 0% | 2% |
12 | 新加坡 | 438 | 3% | 42% |
13 | 丹麦 | 3 | 0% | 0% |
14 | 奥地利 | 9 | 0% | 1% |
15 | 其他 | 753 | 6% | 5% |
小计 | 13603 | 100% | 3% |
注:本表按照第一权利人进行统计(中国的数据暂未包含香港、澳门、台湾地区的专利)。
我国国内的专利数量较多,占该技术领域专利份额的56%,比其他领域的份额相对偏低20多个百分点。国内专利中有2%的专利属于该技术领域,表明我国在该领域上的技术构成比重较低。总体来看,我国国内专利在该领域上的技术构成比重低于美国、日本、韩国等国家,这说明我国在光学和摄影领域上的专利相对偏少,专利技术的发展不平衡,结构不合理。
表8.24-2 2020年国内各省市区光学和摄影领域专利数量
省区 | 专利数量 | 专利份额 | 技术构成 | |
1 | 广东 | 1612 | 21% | 2% |
2 | 北京 | 1224 | 16% | 2% |
3 | 江苏 | 824 | 11% | 2% |
4 | 湖北 | 669 | 9% | 4% |
5 | 台湾 | 599 | 8% | 10% |
6 | 上海 | 594 | 8% | 2% |
7 | 浙江 | 570 | 7% | 1% |
8 | 福建 | 367 | 5% | 4% |
9 | 山东 | 283 | 4% | 1% |
10 | 四川 | 271 | 4% | 2% |
11 | 安徽 | 225 | 3% | 1% |
12 | 吉林 | 190 | 2% | 5% |
13 | 陕西 | 141 | 2% | 1% |
14 | 河南 | 97 | 1% | 1% |
15 | 天津 | 95 | 1% | 2% |
16 | 江西 | 78 | 1% | 2% |
17 | 重庆 | 75 | 1% | 1% |
18 | 湖南 | 68 | 1% | 1% |
19 | 河北 | 59 | 1% | 1% |
20 | 黑龙江 | 46 | 1% | 1% |
21 | 山西 | 40 | 1% | 1% |
22 | 辽宁 | 36 | 0% | 0% |
23 | 广西 | 26 | 0% | 1% |
24 | 香港 | 26 | 0% | 4% |
25 | 云南 | 13 | 0% | 1% |
26 | 贵州 | 11 | 0% | 0% |
27 | 新疆 | 10 | 0% | 1% |
28 | 甘肃 | 8 | 0% | 1% |
29 | 内蒙古 | 6 | 0% | 1% |
30 | 海南 | 1 | 0% | 0% |
31 | 西藏 | 1 | 0% | 1% |
32 | 宁夏 | 0 | 0% | 0% |
33 | 青海 | 0 | 0% | 0% |
34 | 澳门 | 0 | 0% | 0% |
注:本表数据按照第一权利人统计。
2020年,广东获得该领域国家专利1612项,占该领域的份额为21%,占本地区专利的2%;其次是北京,达到1224项,占该领域的份额为16%,占本地区专利的2%。广东和北京在光学和摄影领域上的专利数量最多,表明这两地汇聚了大量的光学和摄影技术研发力量,是研发能力最强的地区。
图8.24-2 2020年国内各省市区光学和摄影领域专利的数量分布
整体来看,国内的发明专利高度集中在广东、北京、江苏、湖北、台湾、上海、浙江,这7个省区在2020年获得的专利数量共占国内的80%,是我国光学和摄影技术专利研发的重要地区。
图8.24-3 2020年国内各省市区光学和摄影领域专利的技术构成比重
另外,台湾、吉林、香港、湖北、福建、上海、广东、北京在该领域上的技术构成比重较高,超过或达到2%,表明这些地区特别偏重光学和摄影技术的研发。
表8.24-3 2020年光学和摄影领域中国局专利授权前100家机构
机构名称 | 国家地区 | 专利数量 | 技术构成 | |
1 | 京东方科技集团股份有限公司 | 中国北京 | 606 | 23% |
2 | 佳能株式会社 | 日本 | 292 | 34% |
3 | 深圳市华星光电技术有限公司 | 中国广东 | 275 | 47% |
4 | 瑞声光学解决方案私人有限公司 | 新加坡 | 272 | 100% |
5 | 富士胶片株式会社 | 日本 | 220 | 52% |
6 | 武汉华星光电技术有限公司 | 中国湖北 | 208 | 50% |
7 | 瑞声科技(新加坡)有限公司 | 新加坡 | 153 | 57% |
8 | 厦门天马微电子有限公司 | 中国福建 | 148 | 51% |
9 | 京瓷办公信息系统株式会社 | 日本 | 138 | 60% |
10 | 深圳市华星光电半导体显示技术有限公司 | 中国广东 | 122 | 28% |
11 | 中国科学院长春光学精密机械与物理研究所 | 中国吉林 | 121 | 25% |
12 | 乐金显示有限公司 | 韩国 | 117 | 23% |
13 | 华为技术有限公司 | 中国广东 | 116 | 2% |
14 | 富士施乐株式会社 | 日本 | 112 | 53% |
15 | 惠科股份有限公司 | 中国广东 | 106 | 33% |
16 | 上海微电子装备(集团)股份有限公司 | 中国上海 | 103 | 60% |
17 | 大立光电股份有限公司 | 中国台湾 | 95 | 100% |
18 | 日东电工株式会社 | 日本 | 93 | 44% |
19 | 夏普株式会社 | 日本 | 91 | 23% |
20 | 友达光电股份有限公司 | 中国台湾 | 85 | 27% |
21 | LG化学株式会社 | 韩国 | 78 | 11% |
22 | 浙江大学 | 中国浙江 | 77 | 2% |
22 | OPPO广东移动通信有限公司 | 中国广东 | 77 | 2% |
24 | 住友化学株式会社 | 日本 | 76 | 37% |
25 | 索尼公司 | 日本 | 74 | 10% |
25 | 株式会社理光 | 日本 | 74 | 36% |
27 | ASML荷兰有限公司 | 荷兰 | 73 | 91% |
28 | 奥林巴斯株式会社 | 日本 | 72 | 30% |
29 | 华中科技大学 | 中国湖北 | 71 | 3% |
30 | 株式会社尼康 | 日本 | 70 | 61% |
31 | 精工爱普生株式会社 | 日本 | 69 | 10% |
32 | 三星显示有限公司 | 韩国 | 68 | 18% |
33 | 先进光电科技股份有限公司 | 中国台湾 | 66 | 100% |
34 | 日产化学工业株式会社 | 日本 | 65 | 70% |
34 | 上海天马微电子有限公司 | 中国上海 | 65 | 23% |
36 | 清华大学 | 中国北京 | 64 | 2% |
36 | 柯尼卡美能达株式会社 | 日本 | 64 | 33% |
38 | 北京理工大学 | 中国北京 | 62 | 4% |
39 | 依视路国际公司 | 法国 | 60 | 75% |
39 | 电子科技大学 | 中国四川 | 60 | 3% |
41 | 昆山龙腾光电股份有限公司 | 中国江苏 | 59 | 41% |
41 | 三星电子株式会社 | 韩国 | 59 | 4% |
43 | 东友精细化工有限公司 | 韩国 | 56 | 62% |
44 | 株式会社日本显示器 | 日本 | 54 | 45% |
45 | 中国科学院光电技术研究所 | 中国四川 | 52 | 47% |
46 | LG伊诺特有限公司 | 韩国 | 48 | 24% |
46 | 群创光电股份有限公司 | 中国台湾 | 48 | 42% |
48 | 瑞声通讯科技(常州)有限公司 | 中国江苏 | 46 | 94% |
48 | 株式会社藤仓 | 日本 | 46 | 65% |
50 | 3M创新有限公司 | 美国 | 43 | 13% |
50 | 中国科学院上海光学精密机械研究所 | 中国上海 | 43 | 33% |
52 | 三星SDI株式会社 | 韩国 | 42 | 21% |
52 | 中芯国际集成电路制造(上海)有限公司 | 中国上海 | 42 | 5% |
52 | 深圳光峰科技股份有限公司 | 中国广东 | 42 | 63% |
55 | 三星电机株式会社 | 韩国 | 41 | 18% |
55 | 长飞光纤光缆股份有限公司 | 中国湖北 | 41 | 44% |
55 | 三菱电机株式会社 | 日本 | 41 | 4% |
55 | 北京航空航天大学 | 中国北京 | 41 | 2% |
59 | 微软技术许可有限责任公司 | 美国 | 40 | 6% |
59 | 东丽株式会社 | 日本 | 40 | 22% |
61 | 惠州市华星光电技术有限公司 | 中国广东 | 39 | 38% |
62 | 武汉天马微电子有限公司 | 中国湖北 | 38 | 19% |
63 | 杭州富通通信技术股份有限公司 | 中国浙江 | 37 | 74% |
63 | 瑞泰光学(常州)有限公司 | 中国江苏 | 37 | 100% |
63 | 青岛海信宽带多媒体技术有限公司 | 中国山东 | 37 | 37% |
66 | 武汉大学 | 中国湖北 | 35 | 4% |
67 | JSR株式会社 | 日本 | 34 | 79% |
67 | 东南大学 | 中国江苏 | 34 | 2% |
67 | DIC株式会社 | 日本 | 34 | 48% |
67 | 玉晶光电(厦门)有限公司 | 中国福建 | 34 | 100% |
71 | 兄弟工业株式会社 | 日本 | 33 | 22% |
71 | 信利光电股份有限公司 | 中国广东 | 33 | 22% |
73 | 常州市瑞泰光电有限公司 | 中国江苏 | 31 | 84% |
73 | 海信视像科技股份有限公司 | 中国山东 | 31 | 16% |
73 | 信越化学工业株式会社 | 日本 | 31 | 26% |
76 | 武汉华星光电半导体显示技术有限公司 | 中国湖北 | 30 | 5% |
76 | 中国科学院半导体研究所 | 中国北京 | 30 | 14% |
78 | 西安交通大学 | 中国陕西 | 29 | 1% |
78 | 北京大学 | 中国北京 | 29 | 4% |
78 | 松下知识产权经营株式会社 | 日本 | 29 | 4% |
78 | 中国科学院西安光学精密机械研究所 | 中国陕西 | 29 | 18% |
78 | 上海中航光电子有限公司 | 中国上海 | 29 | 42% |
78 | AGC株式会社 | 日本 | 29 | 19% |
84 | 苏州大学 | 中国江苏 | 28 | 5% |
85 | 烽火通信科技股份有限公司 | 中国湖北 | 27 | 12% |
85 | 上海交通大学 | 中国上海 | 27 | 2% |
85 | 卡尔蔡司SMT有限责任公司 | 德国 | 27 | 93% |
85 | 中国科学技术大学 | 中国安徽 | 27 | 4% |
85 | 上海理工大学 | 中国上海 | 27 | 7% |
90 | 长春理工大学 | 中国吉林 | 26 | 12% |
90 | 麦克赛尔株式会社 | 日本 | 26 | 44% |
92 | 科磊股份有限公司 | 美国 | 25 | 22% |
92 | 中强光电股份有限公司 | 中国台湾 | 25 | 89% |
92 | 住友电气工业株式会社 | 日本 | 25 | 17% |
92 | 苏州佳世达光电有限公司 | 中国江苏 | 25 | 69% |
92 | 惠普发展公司有限责任合伙企业 | 美国 | 25 | 6% |
92 | 大日本印刷株式会社 | 日本 | 25 | 27% |
92 | 上海华力微电子有限公司 | 中国上海 | 25 | 11% |
99 | 日本瑞翁株式会社 | 日本 | 24 | 26% |
99 | 同济大学 | 中国上海 | 24 | 3% |
注:本表数据按照第一权利人进行统计。
2020年,在光学和摄影领域上获得中国局专利授权最多的机构是京东方科技集团股份有限公司,其次是佳能株式会社和深圳市华星光电技术有限公司。
图8.24-4 2020年光学和摄影领域中国局专利授权前30家机构
从技术构成上看,大立光电、先进光电、瑞泰光学、玉晶光电、瑞声光学、卡尔蔡司SMT、ASML荷兰有限公司等机构的比重较高,均超过90%,这些机构一多半的专利属于该领域,光学和摄影技术是其研发重点,其专业化研发程度较高。
图8.24-5 2020年30家机构的光学和摄影技术构成比重
感谢河南师范大学梁立明教授、科技部中国科学技术发展战略研究院武夷山研究员、大连理工大学丁堃教授对本报告的大力支持与帮助。同时,向以不同形式对本报告提出意见和建议的专家学者们表示诚挚的感谢。
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