电子束光刻设备发展现状及展望

梁惠康¹，段辉高^1,2*

1. 湖南大学机械与运载工程学院，长沙410082

2. 湖南大学粤港澳大湾区创新研究院，广州511300

摘要 电子束光刻设备在高精度掩模制备、原型器件开发、小批量生产以及基础研究中有着不可替代的作用。在国外高端电子束光刻设备禁运的条件下，中国迫切需要实现高端国产化设备的突破。介绍了电子束光刻设备发展历程，列举了当前活跃在科研和产业界的3种设备（高斯束、变形束、多束）的主要厂商及其最新设备性能，并概括了国产化电子束光刻设备发展现状。通过国内外电子束光刻设备性能的对比，总结了国产化研发需要解决的关键性难题。其中，着重介绍了高端高斯电子束光刻设备国产化需要面临的技术挑战：热场发射电子枪、高加速电压、高频图形发生器、极高精度的激光干涉仪检测技术及高精度电子束偏转补偿技术。

关键词 电子束光刻设备；微纳制造；高斯束；变形束；多束

（责任编辑  刘志远）

http://www.kjdb.org/CN/Y2022/V40/I11/33