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0.804,中国光学快报 (COL)的第一份SCI成绩单

已有 12338 次阅读 2010-6-22 11:07 |个人分类:编辑部的故事|系统分类:观点评述| SCI, col

根据ISI 最新的期刊引证报告(JCR),中国光学快报(Chinese Optics Letters COL2009年的影响因子为0.804,在全球入选SCI70种光学类期刊中排名第39位(总被引频次排名第36),在亚洲入选光学类5种期刊中排名第2(总被引频次排名第1)。
COL2008年开始被SCI收录,2009的影响因子为第一份SCI成绩单。在70种期刊中,排名中下,但对于第一个SCI数据,这还是可以接受的。从表1可以看出光学类期刊,除了nature photonics,大部分期刊的影响因子都在5以下(LASER PHOTONICS REV为Wiley的综述类期刊),名声最好的OPT. LETT.影响因子也只有3.059。有一本Laser Physics Letters影响因子也大于5,但人为干预痕迹较多,并没有出现在列表中。

表1 2009JCR中光学类期刊有关数据列表

 

Rank

Abbreviated Journal Title

JCR Data

EigenfactorTM Metrics

Total Cites

Impact
Factor

Immediacy
Index

Articles

Cited
Half-life

EigenfactorTM
Score

Article InfluenceTM
Score

1

NAT PHOTONICS

3468

22.869

5.402

82

2.0

0.03615

13.330

2

LASER PHOTONICS REV

328

5.814

2.200

35

1.6

0.00282

3.142

3

OPT EXPRESS

32080

3.278

0.584

2548

3.1

0.19983

1.235

4

ADV ATOM MOL OPT PHY

937

3.087

0.333

6

9.8

0.00236

1.828

5

IEEE J SEL TOP QUANT

5719

3.064

0.576

205

5.9

0.02609

1.408

6

OPT LETT

36454

3.059

0.598

1308

6.4

0.13076

1.244

7

PHYS REV A

84617

2.866

0.758

2537

8.4

0.23938

1.084

8

J BIOMED OPT

4917

2.501

0.326

322

4.1

0.02179

0.864

9

J LIGHTWAVE TECHNOL

12227

2.185

0.226

660

6.3

0.04199

0.909

10

PHOTONIC NANOSTRUCT

254

2.131

0.321

28

2.5

0.00215

 

11

J OPT SOC AM B

10236

2.087

0.396

381

9.1

0.02728

0.794

12

J SYNCHROTRON RADIAT

2770

1.994

0.790

119

6.1

0.01236

1.316

13

APPL PHYS B-LASERS O

8346

1.992

0.472

436

5.8

0.03082

0.781

14

J DISP TECHNOL

424

1.928

0.319

72

2.7

0.00338

 

15

J PHYS B-AT MOL OPT

13733

1.910

0.543

521

9.5

0.03771

0.746

16

J LUMIN

7396

1.847

0.295

403

6.4

0.02083

0.546

17

IEEE PHOTONIC TECH L

13103

1.815

0.346

546

5.4

0.05258

0.630

18

OPT MATER

4552

1.728

0.238

361

5.0

0.01676

0.537

19

J OPT SOC AM A

11591

1.670

0.350

317

>10.0

0.02284

0.639

20

INT J PHOTOENERGY

408

1.494

0.000

34

4.5

0.00167

0.449

21

J OPT NETW

556

1.489

0.368

38

3.0

0.00356

 

22

MICROELECTRON ENG

5616

1.488

0.291

556

4.4

0.02469

0.490

23

IMAGE VISION COMPUT

2926

1.474

0.286

161

6.7

0.00786

0.593

24

APPL OPTICS

27772

1.410

0.282

1045

>10.0

0.05621

0.556

25

OPT COMMUN

14516

1.316

0.359

877

7.3

0.04055

0.446

26

J OPT SOC KOREA

166

1.278

0.269

78

1.7

0.00042

 

27

OPT LASER ENG

1390

1.262

0.302

192

5.2

0.00462

0.378

28

J NANOPHOTONICS

122

1.256

0.350

40

1.9

0.00087

 

28

LIGHTING RES TECHNOL

372

1.256

0.143

21

8.0

0.00073

 

30

J OPT A-PURE APPL OP

2288

1.198

0.426

343

4.2

0.01177

0.499

31

OPTO-ELECTRON REV

409

1.168

0.250

52

4.5

0.00177

0.330

32

J SOC INF DISPLAY

809

1.033

0.252

139

3.5

0.00348

 

33

IET OPTOELECTRON

93

0.989

0.154

39

 

0.00064

0.351

34

OPT LASER TECHNOL

1268

0.981

0.381

160

4.9

0.00436

0.287

35

J MOD OPTIC

3353

0.942

0.291

296

8.7

0.00957

0.388

36

OPT FIBER TECHNOL

465

0.939

0.224

76

6.2

0.00139

0.350

37

INFRARED PHYS TECHN

993

0.903

0.125

80

8.3

0.00296

0.373

38

DISPLAYS

530

0.812

0.258

31

6.4

0.00175

0.446

39

CHIN OPT LETT

661

0.804

0.040

321

2.6

0.00136

 

40

J EUR OPT SOC-RAPID

91

0.797

0.250

52

 

0.00069

0.328

41

PHOTONIC NETW COMMUN

367

0.765

0.075

67

5.2

0.00122

0.223

42

J RUSS LASER RES

240

0.748

0.231

65

3.7

0.00068

0.154

43

MICROW OPT TECHN LET

4141

0.682

0.151

845

4.5

0.01685

0.202

44

LASER PHYS

1293

0.676

0.263

346

4.5

0.00523

0.214

45

OPT QUANT ELECTRON

1109

0.657

0.150

20

8.7

0.00292

0.249

46

INT J IMAG SYST TECH

426

0.653

0.049

41

8.5

0.00169

0.499

47

J LASER APPL

377

0.652

0.000

24

7.4

0.00100

0.264

48

INT J INFRARED MILLI

696

0.576

 

0

7.1

0.00222

0.161

49

J X-RAY SCI TECHNOL

153

0.571

0.000

25

5.6

0.00058

0.255

50

OPT ENG

4863

0.553

0.083

360

9.1

0.01029

0.211

51

J NONLINEAR OPT PHYS

293

0.549

0.147

34

6.8

0.00079

0.146

52

J MICRO-NANOLITH MEM

93

0.541

0.164

128

 

0.00046

0.167

53

OPT REV

484

0.529

0.142

120

6.5

0.00138

0.192

54

OPT SPECTROSC+

2253

0.505

0.201

289

>10.0

0.00400

0.134

55

LEUKOS

54

0.500

0.278

18

 

0.00036

0.195

56

OPTOELECTRON ADV MAT

176

0.451

0.095

285

2.0

0.00072

0.106

57

J ELECTRON IMAGING

864

0.444

0.062

65

6.8

0.00300

0.333

58

J OPTOELECTRON ADV M

1710

0.433

0.078

399

3.8

0.00619

0.115

59

J LASER MICRO NANOEN

71

0.429

0.043

46

 

0.00025

0.084

60

FIBER INTEGRATED OPT

171

0.425

0.182

33

6.9

0.00050

0.143

61

OPTIK

1183

0.378

0.082

182

>10.0

0.00149

0.132

62

OPT APPL

165

0.358

0.020

99

4.7

0.00050

0.067

63

INT J OPTOMECHATRONI

17

0.354

0.000

20

 

0.00010

0.103

64

LASER FOCUS WORLD

252

0.203

0.082

73

7.4

0.00067

0.059

65

J OPT TECHNOL+

374

0.201

0.049

163

5.9

0.00102

0.056

66

MICROLITHOGR WORLD

21

0.188

 

0

 

0.00016

0.093

67

LASER ENG

97

0.179

0.000

13

 

0.00027

0.085

68

PHOTONIC SPECTRA

115

0.105

0.022

93

3.9

0.00064

0.037

69

J INFRARED MILLIM TE

18

 

0.132

136

 

0.00000

 

69

J OPT COMMUN NETW

2

 

0.021

94

 

0.00000

 

 

 

表2 亚洲入选SCI5种光学类期刊影响因子排名

Rank

Abbreviated Journal Title

Journal

Country

JCR Data

EigenfactorTM Metrics

Total Cites

Impact
Factor

Immediacy
Index

Articles

Cited
Half-life

EigenfactorTM
Score

Article InfluenceTM
Score

1

J OPT SOC KOREA

Korea

166

1.278

0.269

78

1.7

0.00042

 

2

CHIN OPT LETT

China

661

0.804

0.040

321

2.6

0.00136

 

3

J NONLINEAR OPT PHYS

Singapore

293

0.549

0.147

34

6.8

0.00079

0.146

4

OPT REV

Japan

484

0.529

0.142

120

6.5

0.00138

0.192

5

J LASER MICRO NANOEN

Japan

71

0.429

0.043

46

 

0.00025

0.084

关于COL的介绍:

COL创刊于20031月,由中国光学学会和中国科学院上海光学精密机械研究所主办,上海交通大学协办,美国光学学会全球发行

COL创刊时即坚持走国际化办刊路线,其宗旨是快速、全方位地报道国际光学领域中的最新理论研究、科技成果和创新技术。

COL创刊不久,即被国际知名检索机构EICACSA收录,2006年被OpticsInfoBase收录,2007年开始被SCI-E收录,2008年被MSB-S收录。2009COLOptics InfoBase的年下载量为24,137次,比2007年增长了3倍多。 

COL主编为徐至展院士,并拥有由40多名在光学各个领域有突出成就的专家组成的编委会(其中国外编委比例超过20%),还拥有一支工作在光学科研一线的出色的审稿专家队伍(其中国外审稿专家比例超过35%)。在他们的支持和帮助以及编辑部人员的共同努力下,COL不断在成长,已发展为国内外光学研究成果的重要传播平台,其影响力不断扩大。

 

(本文数据为编辑部收集,仅供参考)

 



投稿与审稿
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