紧接上文：

Materials Studio官方教程：DMol3——能带结构和态密度的计算【1】

3、设置计算任务控制参数并运行计算

可以使用Job Control选项卡上的命令来对DMol³计算任务进行控制。

选择Job Control选项卡。 

DMol3 Calculation对话框的Job Control选项卡

此处，可以选择计算运行的网关位置，并设置各种选项，如任务描述、计算任务是否在多核上并行、及所使用的CPU核数。还可以通过单击More...按钮，进一步设置任务选项，包括实时更新参数设置和计算任务完成选项。

现在可以运行DMol³计算任务了。

单击Run按钮并关闭对话框。

将显示一个名为Status.txt的文本文档，报告DMol³计算运行的状态。这个文档会定期更新，直到计算完成。 

4、分析能带结构

当计算任务完成时，结果将返回到Project Explorer中的AlAs DMol3 Energy文件夹。

在AlAs DMol3 Energy文件夹中，双击AlAs.xsd。

将显示AlAs结构。晶体结构与原始结构相同，但此结构具有与运行DMol3计算相关的结果。在本教程的剩余部分，将分析能带结构和DOS结果。

单击Modules工具条上的DMol3按钮，选择Analysis，或在菜单栏中选择Modules | DMol3 | Analysis。

打开DMol3 Analysis对话框。

DMol3 Analysis对话框Band structure选项

从下拉菜单中选择Band structure，单击View按钮。

将显示能带结构图。 

AlAs的DMol3能带结构

能带的能量与费米能级有关，费米能级的值为零。注意，Γ点（G）处的带隙只有约0.1 Hartree，表明这是一个半导体。可以使用缩放控件扩大图表的此区域，并更精确地测量带隙。图中报告的实际带隙为0.054 Ha（1.5 eV），从图中可以看出，定性来看，AlAs为间接带隙，和实验结果一致[1]。密度泛函方法低估了带隙的绝对值，低温下的实验带隙约为2.2 eV。

5、分析DOS和PDOS

在AlAs DMol3 Energy文件夹中，双击AlAs.xsd。

在DMol3 Analysis对话框中选择Density of states。单击Partial单选按钮，勾选s、p、d和Sum复选框。单击View按钮。

将显示PDOS图。

AlAs的DMol3分波态密度

检查费米能级处的能量状态数，此处能量为0。绝缘体将有一个明显的带隙，而导体将有许多态。这里的图是典型的半导体PDOS图。请注意，可以看到每种类型的轨道（s、p或d）产生了多少个态。

还可以看到有多少态与结构中的特定原子相关联。

在AlAs DMol3 Energy文件夹中，双击AlAs.xsd。

通过单击选择一个铝原子（铝原子位于单位晶胞的角落）。

使用与上述相同的步骤重新创建PDOS图。

现在，在AlAs中选择As原子，并为该原子创建另一个PDOS图。

比较Al、As和整个单位晶胞的结果。

提示：为了提高DOS和PDOS图的精度，可以改变态密度计算中所使用的积分方法。

当选中Density of states时，单击DMol3 Analysis对话框上的More...按钮，打开DMol3 DOS Analysis Options对话框。从Integration method下拉列表中选择Interpolation，并将Accuracy level设置为Fine。单击OK按钮，然后单击DMol3 Analysis对话框上的View按钮。这将产生更精确的DOS图，图中具有更明显的特征和更清晰定义的带隙。

从菜单栏中选择File | Save Project，然后选择Window | Close All。

本教程到此结束。

本教程对应视频将在杨站长视频号、华算科技B站同步推送，敬请各位关注。

[1] Semiconductors Information

【系列教程】

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