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2019年有机高分子化合物领域的专利竞争态势——LG化学、陶氏全球、巴斯夫领先

已有 1065 次阅读 2020-6-30 16:54 |系统分类:博客资讯

2019年中美欧日韩五局发明专利统计报告博客版987.docx

2019年中国、美国、欧洲、日本、韩国五局发明专利统计分析报告(附录第一部分)

中美欧日韩五局专利数据统计分析小组

第二部分 2019年美国发明专利统计分析报告

19 不同技术领域下世界各国及机构的在美专利布局和竞争

19.14 有机高分子化合物领域的专利竞争态势

14个技术领域是有机高分子化合物。2019年,美国专利商标局在该领域共授权专利7783项(增长率为11%),占总授权量的2.2%,是专利数量第48多的领域。

2019年,美国在该领域获得专利权2875项,占该领域专利授权总量的37%。中国在该领域做出专利发明298项,获得专利权222项,流失专利发明76项。日本和韩国获得的专利权数量分别为1924558项。

 

19.14-1  2019年各国有机高分子化合物领域的在美专利发明和专利权数量


国家

发明

数量

专利权数量

净流失数量

专利流失率

发明份额

专利权份额

份额流失量

1

美国

2806

2875

-69

-2%

36.1%

36.9%

-0.9%

2

日本

1937

1924

13

1%

24.9%

24.7%

0.2%

3

韩国

561

558

3

1%

7.2%

7.2%

0.0%

4

中国

298

222

76

26%

3.8%

2.9%

1.0%

5

德国

602

661

-59

-10%

7.7%

8.5%

-0.8%

6

法国

251

248

3

1%

3.2%

3.2%

0.0%

7

加拿大

103

61

42

41%

1.3%

0.8%

0.5%

8

英国

156

101

55

35%

2.0%

1.3%

0.7%

9

瑞士

105

163

-58

-55%

1.3%

2.1%

-0.7%

10

荷兰

136

207

-71

-52%

1.7%

2.7%

-0.9%

11

瑞典

41

24

17

41%

0.5%

0.3%

0.2%

12

以色列

30

28

2

7%

0.4%

0.4%

0.0%

13

意大利

109

87

22

20%

1.4%

1.1%

0.3%

14

印度

67

38

29

43%

0.9%

0.5%

0.4%

15

其他

581

586

-5

-1%

7.5%

7.5%

-0.1%


小计

7783

7783

0

0%

100%

100%

0%

注:本表分别按照专利第一发明人和第一权利人进行统计(中国的数据暂未包含香港、澳门、台湾地区的专利)。

 

image.png

19.14-1  2019年各国有机高分子化合物领域的在美专利发明和专利权数量对比

 

2019年,在有机高分子化合物领域上获得专授权最多的公司是LG化学、陶氏全球、巴斯夫。中国专利最多的是工业技术研究院,获得23项专利。

19.14-2  2019年有机高分子化合物领域在美专利授权前10机构


机构名称

国家

机构英文名称

专利

1

LG化学公司

韩国

LG Chem, Ltd.

233

2

陶氏全球技术有限公司

美国

Dow Global Technologies Llc

179

3

巴斯夫股份公司

德国

Basf Se

155

4

3M创新有限公司

美国

3m Innovative Properties Company

138

5

沙特基础工业公司

荷兰

Sabic Global Technologies B.V.

109

6

富士胶片公司

日本

Fujifilm Corporation

86

7

国际商业机器公司

美国

International Business Machines   Corporation

78

7

住友橡胶工业株式会社

日本

Sumitomo Rubber Industries, Ltd.

78

9

赢创德固赛公司

德国

Evonik Degussa Gmbh

77

10

信越化学工业株式会社

日本

Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.

76

注:本表数据按照第一权利人进行统计。

 

image.png

19.14-2  2019年有机高分子化合物领域在美专利授权前10机构

 

 

致谢

感谢大连理工大学刘则渊教授、河南师范大学梁立明教授、科技部中国科学技术发展战略研究院武夷山研究员对本报告的支持、帮助、建议和意见。同时也感谢对本报告做出贡献的一些审阅者和讨论者,包括武汉大学张琳教授、武汉大学黄颖副教授等学者。

 

 




http://blog.sciencenet.cn/blog-681765-1240067.html

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