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微电子制造科学与工程_第三章扩散: 热度 1 2012-6-4 21:56; 更新日期 2013年3月13日 PDF ： 3 扩散_微电子制造科学与工程.pdf 视频： 1. 二氧化氮气体的扩散， NO2气体的扩散.flv 2. 蓝墨水的扩散.flv 3. Pb Au固体扩散.flv 4. Pt-Si diffusion.mpg; 个人分类: 微电子制造|3756 次阅读|1 个评论热度 1

微电子制造科学与工程_第五章离子注入: 2012-4-25 17:32; 第五章离子注入 _微电子制造科学与工程更新日期2017年3月19日 PDF版， 5 离子注入_ 微电子制造科学与工程 20170319.pdf 重要资料：视频，Silicon Run Ion Implantation ，0908402翻译，索寻 email ：gaoyang0612@163.com 7' 以后主体内容; 个人分类: 微电子制造|3447 次阅读|没有评论

微电子制造科学与工程_第六章快速热处理: 2012-4-25 11:11; 第六章快速热处理_ 微电子制造科学与工程更新日期 2017年3月19日 6 快速热处理_ 微电子制造科学与工程 20170319.pdf 等离子灯 2014.pdf 视频：Silicon Run 系列_ 离子注入后半部分（27分50秒之后）参考文献: 1. Metal silicides- An integral part of microelectronics JOM Journ ...; 个人分类: 微电子制造|3471 次阅读|没有评论

微电子制造科学与工程_第二章半导体衬底: 2012-3-24 22:15; 第二章半导体衬底微电子制造科学与工程 1. 课件 PDF 版 2017年3月8日更新 2 半导体衬底20170308-07.pdf 2. 重要文档硅片提纯，Siemens Process， Silicon_Purification.pdf 2013年2月22日更新晶片规格(wacker) wacker_wafer_spec.rar ...; 个人分类: 微电子制造|4140 次阅读|没有评论

微电子制造科学与工程_第一章引论: 热度 2 2012-3-12 12:46; 微电子制造科学与工程_第一章引论一、课件 PDF 版 1 引论_微电子制造科学与工程 20170226.pdf 2017年2月26日更新二、参考 1. 普通Si晶体管 MOS工艺简介.pdf 2013年2月21日更新 2. Intel High-K 金 ...; 个人分类: 微电子制造|7471 次阅读|3 个评论热度 2

王华涛

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