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2019年电热与等离子体领域的专利竞争态势——IBM、三星电子、松下领先，京东方国内第一
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2019年中美欧日韩五局发明专利统计报告博客版1018.docx
2019年中国、美国、欧洲、日本、韩国五局发明专利统计分析报告（附录第一部分）
中美欧日韩五局专利数据统计分析小组
第二部分 2019年美国发明专利统计分析报告
19 不同技术领域下世界各国及机构的在美专利布局和竞争
19.45 电热与等离子体领域的专利竞争态势
第45个技术领域是电热与等离子体，主要包括电热、电击、静电、X射线和等离子体技术。22019年，美国专利商标局在该领域共授权专利11195项（增长率为18%），占总授权量的3.2%，是专利数量第38多的领域。
2019年，美国在该领域获得专利权4526项，占该领域专利授权总量的40%。中国在该领域做出专利发明821项，获得专利权796项，流失专利发明25项。日本和韩国获得的专利权数量分别为2288和869项。
表19.45-1 2019年各国电热与等离子体领域的在美专利发明和专利权数量
国家 | 发明 数量 | 专利权数量 | 净流失数量 | 专利流失率 | 发明份额 | 专利权份额 | 份额流失量 | |
1 | 美国 | 4318 | 4526 | -208 | -5% | 38.6% | 40.4% | -1.9% |
2 | 日本 | 2319 | 2288 | 31 | 1% | 20.7% | 20.4% | 0.3% |
3 | 韩国 | 884 | 869 | 15 | 2% | 7.9% | 7.8% | 0.1% |
4 | 中国 | 821 | 796 | 25 | 3% | 7.3% | 7.1% | 0.2% |
5 | 德国 | 549 | 517 | 32 | 6% | 4.9% | 4.6% | 0.3% |
6 | 法国 | 161 | 167 | -6 | -4% | 1.4% | 1.5% | -0.1% |
7 | 加拿大 | 183 | 125 | 58 | 32% | 1.6% | 1.1% | 0.5% |
8 | 英国 | 151 | 110 | 41 | 27% | 1.3% | 1.0% | 0.4% |
9 | 瑞士 | 86 | 102 | -16 | -19% | 0.8% | 0.9% | -0.1% |
10 | 荷兰 | 188 | 280 | -92 | -49% | 1.7% | 2.5% | -0.8% |
11 | 瑞典 | 47 | 45 | 2 | 4% | 0.4% | 0.4% | 0.0% |
12 | 以色列 | 57 | 37 | 20 | 35% | 0.5% | 0.3% | 0.2% |
13 | 意大利 | 113 | 65 | 48 | 42% | 1.0% | 0.6% | 0.4% |
14 | 印度 | 59 | 5 | 54 | 92% | 0.5% | 0.0% | 0.5% |
15 | 其他 | 1259 | 1263 | -4 | 0% | 11.2% | 11.3% | 0.0% |
小计 | 11195 | 11195 | 0 | 0% | 100% | 100% | 0% |
注：本表分别按照专利第一发明人和第一权利人进行统计（中国的数据暂未包含香港、澳门、台湾地区的专利）。
图19.45-1 2019年各国电热与等离子体领域的在美专利发明和专利权数量对比
2019年，在电热与等离子体领域上获得专授权最多的机构是IBM、三星电子、松下。中国专利最多的机构是京东方科技集团公司，获得了103项专利。
表19.45-2 2019年电热与等离子体领域在美专利授权前10机构
机构名称 | 国家 | 机构英文名称 | 专利 | |
1 | 国际商业机器公司 | 美国 | International Business Machines Corporation | 190 |
2 | 三星电子公司 | 韩国 | Samsung Electronics Co., Ltd. | 181 |
3 | 松下知识产权管理公司 | 日本 | Panasonic Intellectual Property Management Co., Ltd. | 178 |
4 | 苹果公司 | 美国 | Apple Inc. | 154 |
5 | 三星显示公司 | 韩国 | Samsung Display Co., Ltd. | 152 |
6 | 英特尔公司 | 美国 | Intel Corporation | 142 |
7 | 村田制造公司 | 日本 | Murata Manufacturing Co., Ltd. | 135 |
8 | 昕诺飞股份公司 | 荷兰 | Signify Holding B.V. | 133 |
9 | 富士株式会社 | 日本 | Fuji Corporation | 110 |
10 | 戴尔公司 | 美国 | Dell Products L.P. | 108 |
注：本表数据按照第一权利人进行统计。
图19.45-2 2019年电热与等离子体领域在美专利授权前10机构
致谢
感谢大连理工大学刘则渊教授、河南师范大学梁立明教授、科技部中国科学技术发展战略研究院武夷山研究员对本报告的支持、帮助、建议和意见。同时也感谢对本报告做出贡献的一些审阅者和讨论者，包括武汉大学张琳教授、武汉大学黄颖副教授等学者。
https://blog.sciencenet.cn/blog-681765-1241572.html
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