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2019年光学和摄影领域的专利竞争态势——佳能、京东方、三星显示领先

已有 634 次阅读 2020-7-6 09:13 |系统分类:博客资讯

2019年中美欧日韩五局发明专利统计报告博客版997.docx

2019年中国、美国、欧洲、日本、韩国五局发明专利统计分析报告(附录第一部分)

中美欧日韩五局专利数据统计分析小组

第二部分 2019年美国发明专利统计分析报告

19 不同技术领域下世界各国及机构的在美专利布局和竞争

19.24 光学和摄影领域的专利竞争态势

24个技术领域是光学和摄影,主要包括光学元件、眼镜、照相器材和感光材料。2019年,美国专利商标局在该领域共授权专利21935项(增长率为21%),占总授权量的6.2%,是专利数量第2多的领域。

2019年,美国在该领域获得专利权6100项,占该领域专利授权总量的28%。中国在该领域做出专利发明2370项,获得专利权2304项,流失专利发明66项。日本和韩国获得的专利权数量分别为75051968项。

 

19.24-1  2019年各国光学和摄影领域的在美专利发明和专利权数量


国家

发明

数量

专利权数量

净流失数量

专利流失率

发明份额

专利权份额

份额流失量

1

美国

5885

6100

-215

-4%

26.8%

27.8%

-1.0%

2

日本

7425

7505

-80

-1%

33.9%

34.2%

-0.4%

3

韩国

1928

1968

-40

-2%

8.8%

9.0%

-0.2%

4

中国

2370

2304

66

3%

10.8%

10.5%

0.3%

5

德国

679

614

65

10%

3.1%

2.8%

0.3%

6

法国

314

301

13

4%

1.4%

1.4%

0.1%

7

加拿大

318

224

94

30%

1.4%

1.0%

0.4%

8

英国

245

162

83

34%

1.1%

0.7%

0.4%

9

瑞士

127

126

1

1%

0.6%

0.6%

0.0%

10

荷兰

376

488

-112

-30%

1.7%

2.2%

-0.5%

11

瑞典

66

70

-4

-6%

0.3%

0.3%

0.0%

12

以色列

307

178

129

42%

1.4%

0.8%

0.6%

13

意大利

88

73

15

17%

0.4%

0.3%

0.1%

14

印度

41

13

28

68%

0.2%

0.1%

0.1%

15

其他

1766

1809

-43

-2%

8.1%

8.2%

-0.2%


小计

21935

21935

0

0%

100%

100%

0%

注:本表分别按照专利第一发明人和第一权利人进行统计(中国的数据暂未包含香港、澳门、台湾地区的专利)。

 

image.png

19.24-1  2019年各国光学和摄影领域的在美专利发明和专利权数量对比

 

2019年,在光学和摄影领域上获得专授权最多的机构是佳能、京东方、三星显示。中国专利最多的机构是京东方科技集团公司,获得862项专利。

19.24-2  2019年光学和摄影领域在美专利授权前10机构


机构名称

国家

机构英文名称

专利

1

佳能株式会社

日本

Canon Kabushiki Kaisha

1300

2

京东方科技集团公司

中国

Boe Technology Group Co., Ltd.

862

3

三星显示公司

韩国

Samsung Display Co., Ltd.

608

4

日本显示公司

日本

Japan Display Inc.

386

5

三星电子公司

韩国

Samsung Electronics Co., Ltd.

385

6

深圳华星光电科技公司

中国

Shenzhen China Star Optoelectronics   Technology Co., Ltd.

308

7

奥林巴斯株式会社

日本

Olympus Corporation

297

8

京瓷办公信息系统株式会社

日本

Kyocera Document Solutions Inc.

294

8

富士胶片公司

日本

Fujifilm Corporation

294

10

柯尼卡美能达株式会社

日本

Konica Minolta, Inc.

293

注:本表数据按照第一权利人进行统计。

 

image.png

19.24-2  2019年光学和摄影领域在美专利授权前10机构

 

 

致谢

感谢大连理工大学刘则渊教授、河南师范大学梁立明教授、科技部中国科学技术发展战略研究院武夷山研究员对本报告的支持、帮助、建议和意见。同时也感谢对本报告做出贡献的一些审阅者和讨论者,包括武汉大学张琳教授、武汉大学黄颖副教授等学者。

 

 




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