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2019年材料化学与纳米领域的专利竞争态势——应用材料、康宁、东京电子领先,台积电国内第一

已有 931 次阅读 2020-6-29 18:06 |系统分类:博客资讯

2019年中美欧日韩五局发明专利统计报告博客版984.docx

2019年中国、美国、欧洲、日本、韩国五局发明专利统计分析报告(附录第一部分)

中美欧日韩五局专利数据统计分析小组

第二部分 2019年美国发明专利统计分析报告

19 不同技术领域下世界各国及机构的在美专利布局和竞争

19.11 材料化学与纳米领域的专利竞争态势

11个技术领域是材料化学与纳米,主要涉及无机化学,包括玻璃、水泥、金属、晶体的生产和制备,还涉及微观结构和纳米。2019年,美国专利商标局在该领域共授权专利12153项(增长率为15%),占总授权量的3.4%,是专利数量第34多的领域。

2019年,美国在该领域获得专利权4870项,占该领域专利授权总量的40%。中国在该领域做出专利发明555项,获得专利权530项,流失专利发明25项。日本和韩国获得的专利权数量分别为2817712项。

 

19.11-1  2019年各国材料化学与纳米领域的在美专利发明和专利权数量


国家

发明

数量

专利权数量

净流失数量

专利流失率

发明份额

专利权份额

份额流失量

1

美国

4819

4870

-51

-1%

39.7%

40.1%

-0.4%

2

日本

2830

2817

13

0%

23.3%

23.2%

0.1%

3

韩国

733

712

21

3%

6.0%

5.9%

0.2%

4

中国

555

530

25

5%

4.6%

4.4%

0.2%

5

德国

806

799

7

1%

6.6%

6.6%

0.1%

6

法国

389

375

14

4%

3.2%

3.1%

0.1%

7

加拿大

204

196

8

4%

1.7%

1.6%

0.1%

8

英国

224

196

28

13%

1.8%

1.6%

0.2%

9

瑞士

114

130

-16

-14%

0.9%

1.1%

-0.1%

10

荷兰

71

139

-68

-96%

0.6%

1.1%

-0.6%

11

瑞典

66

59

7

11%

0.5%

0.5%

0.1%

12

以色列

61

57

4

7%

0.5%

0.5%

0.0%

13

意大利

116

99

17

15%

1.0%

0.8%

0.1%

14

印度

77

34

43

56%

0.6%

0.3%

0.4%

15

其他

1088

1140

-52

-5%

9.0%

9.4%

-0.4%


小计

12153

12153

0

0%

100%

100%

0%

注:本表分别按照专利第一发明人和第一权利人进行统计(中国的数据暂未包含香港、澳门、台湾地区的专利)。

 

image.png

19.11-1  2019年各国材料化学与纳米领域的在美专利发明和专利权数量对比

 

2019年,在材料化学与纳米领域上获得专授权最多的公司是应用材料、康宁、东京电子。中国专利最多的是台湾积体电路制造公司,获得111项专利。


19.11-2  2019年材料化学与纳米领域在美专利授权前10机构


机构名称

国家

机构英文名称

专利

1

应用材料公司

美国

Applied Materials, Inc.

256

2

康宁公司

美国

Corning Incorporated

221

3

东京电子株式会社

日本

Tokyo Electron Limited

131

4

国际商业机器公司

美国

International Business Machines   Corporation

124

5

JFE钢铁株式会社

日本

JFE Steel Corporation

112

6

台湾积体电路制造公司

中国

Taiwan Semiconductor Manufacturing   Company, Ltd.

111

7

美国联合技术公司

美国

United Technologies Corporation

110

8

拉姆研究公司

美国

Lam Research Corporation

108

9

通用电气公司

美国

General Electric Company

102

10

三星电子公司

韩国

Samsung Electronics Co., Ltd.

101

注:本表数据按照第一权利人进行统计。

 

image.png

19.11-2  2019年材料化学与纳米领域在美专利授权前10机构

 

 

致谢

感谢大连理工大学刘则渊教授、河南师范大学梁立明教授、科技部中国科学技术发展战略研究院武夷山研究员对本报告的支持、帮助、建议和意见。同时也感谢对本报告做出贡献的一些审阅者和讨论者,包括武汉大学张琳教授、武汉大学黄颖副教授等学者。

 

 




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