选择一个适宜的氨基保护基时，需要考虑到所有的反应物，反应条件及反应过程中会涉及的底物中的官能团。最好的是不保护，若需要保护，选择最容易上和脱的保护基。

  首先，要对所有的反应官能团作出评估，确定哪些在所设定的反应条件下是不稳定并需要加以保护的，并在充分考虑保护基的性质的基础上，选择能和反应条件相匹配的氨基保护基。

  其次，当几个保护基需要同时被除去时，用相同的保护基来保护不同的官能团非常有效（如苄基可保护羟基为醚，保护羧酸为酯，保护氨基为卞胺）。选择性去除保护基时，可以采用不同种类的保护基（如一个Cbz保护的氨基可氢解除去，但对另一个Boc保护的氨基则是稳定的）。

  此外，还要从电子和立体的因素去考虑对保护的生成和去除速率的影响（如羧酸叔醇酯远比伯醇酯难以生成或除去）。

如果难以找到合适的保护基，考虑从含有前体官能团（如硝基，亚胺等）的原料出发，设计新的合成路线。

  氨基保护基可以分为烷氧羰基(Cbz, Boc, Fmoc, Alloc, Teoc)、酰基(Pht, Tos, Tfa)和烷基(Trt, Dmb, Pmb, Bn)三大类。烷氧羰基使用最多，归因于N-烷氧羰基保护的氨基酸在肽合成中不易发生消旋化。

  在合成反应中，往往需要对伯胺、仲氨、咪唑、吡咯、吲哚和其他芳香氮杂环中的氨基进行保护。常用的氨基保护基（Amino-protecting Group）如下表所示。

Common Amino-protecting Group

1. Cbz(苄氧羰基)

Protection:

Deprotection:  

  实验室常用方法为催化氢解，如分子中存在对催化氢解敏感或钝化的基团时，采用酸解裂解或Na/NH3还原方法。

  催化氢解的供氢体可以是H2，也可以是环己二烯、1，4-环己二烯、甲酸铵和甲酸等，以后四个为供氢体的反应又叫催化转氢反应，通常比催化氢化反应更迅速。

  催化剂主要用5-10%的Pd/C、10-20%的PdOH-C；溶剂可以用甲醇，乙醇，四氢呋喃等。

  分子中有卤原子(Cl, Br, I)存在时，用Pd/C一般会造成脱卤的发生，使用PdCl2催化剂可较好的避免脱卤的发生。

2.  Boc (叔丁氧羰基)

  Boc对催化氢解稳定，但比Cbz对酸要敏感得多。当Boc和Cbz同时存在时，可以用催化氢解脱去Cbz，Boc保持不变，或用酸解脱去Boc而Cbz不受影响。

Protection:

Deprotection:

  Boc比Cbz对酸敏感，Boc的脱除一般可用TFA或50% TFA in CH2Cl2 by volume

3. Fmoc(笏甲氧羰基)

  与Cbz和Boc不同，Fmoc保护基的对酸极其稳定，在Fmoc存在下，可对分子内含有的Boc或者苄基选择性去保护。Fmoc对氢化稳定，但某些情况下，可用H2/Pd-C在AcOH/MeOH中脱保护。

Protection:

Deprotection:

4. Alloc(烯丙氧羰基)

  Alloc与Cbz、Boc和Fmoc不同，它对酸、碱等都很稳定，在它的存在下，Cbz、Boc和Fmoc等可选择性去保护，而它的脱去则通常在Pd(0)的存在下进行。

Protection:

Deprotection:

  Alloc保护基对酸、碱等较强的稳定性，它们通常用Pd(0)，如Pd(PPh3)4或Pd(PPh3)2Cl2存在的条件去保护。

5. Teoc(三甲基硅乙氧羰基)

    Teoc与Cbz、Boc, Fmoc 和Alloc不同，它对酸、大部分碱，及贵金属催化等都很稳定，在它的存在下，Cbz、Boc，Fmoc和Alloc等可选择性去保护，而它的脱去则通常在氟负离子存在下进行。

Protection:

Deprotection:

  Teoc脱除主要通过TBAF(四丁基氟化胺)，TEAF (四乙基氟化胺)或TMAF(四甲基氟化胺)来脱除，在脱除过程中，TBAF将产生四丁基胺盐的副产物，不易除去，可用TMAF或TEAF来代替，另外TFA也可选择性去保护。

6. 甲氧/乙氧羰基

  甲氧/乙氧羰基对一般的酸、碱和氢解等都很稳定，在它的存在下，Cbz、Boc和苄基等可选择性去保护。

Protection:

Deprotection:

  因为甲氧/乙氧羰基较强的稳定性，它们通常只用较剧烈的条件去保护（比如加热或者回流条件下），如HBr/HOAc，KOH/MeOH，6 N HCl 和TMSI等。

7. Pht(邻苯二甲酰基)

  同一般的酰基氨基酸比较，Pht-氨基酸在接肽时不易消旋，但它对碱不稳定，当选用Pht作氨基保护基时，肽链的羧基末端则不能用甲酯（或乙酯）保护，而只能用苄酯或叔丁酯保护。Pht对催化氢解、HBr/HOAc处理以及Na/NH3（液）还原（后处理的碱性条件需要避免）等均稳定，但很容易用肼处理脱去。

Protection:

Deprotection:

  Pht-氨基衍生物很容易用肼处理脱去。一般用水合肼的醇溶液回流或用肼的水或醇溶液室温放置1-2 天都可完全脱去Pht保护基。在此条件下Cbz、Boc、甲酰基、Trt、Tos等均不受影响。在肼效果差的情况下，可用NaBH4/i-PrOH-H2O(6:1)和AcOH在80℃条件下去保护。浓HCl回流也容易脱去Pht保护基。

8. Tos(对甲苯磺酰基)

  Tos是最稳定的氨基保护基之一，对碱性水解和催化还原稳定。

Protection:

Deprotection:

  Tos非常稳定，它经得起一般酸解(TFA和HCl等）、皂化、催化氢解等脱保护方法，常用萘钠、Na/NH3(液) 和 Li/NH3(液)处理脱去。HBr/苯酚和Mg/MeOH 也是比较好的去保护方法。此外，有时HF/MeCN回流也能脱去Tos基。

9. Tfa(三氟乙酰基)

Tfa在稀碱液中很容易脱去。

Protection:

Deprotection:

三氟乙酰胺也是较易去保护地酰胺之一。Tfa基可以在水或乙醇水溶液中用0.1N NaOH处理或者用1 M 哌啶溶液处理很容易地脱去。在K2CO3或Na2CO3/MeOH/H2O条件下，Tfa可在甲基酯存在下于室温去保护。也可在NH3/MeOH，HCl/MeOH或通过相转移水解(KOH/Et3Bn+Br–/H2O/CH2Cl2或乙醚)脱去。

10. Trt(三苯甲基)

 Protection:

Deprotection:

  Trt容易用酸脱去，如用HOAc或50% aq. HOAc的水溶液在30℃或回流数分钟顺利除去，或者在HCl/MeOH、HCl/CHCl3、HBr/HOAc和TFA条件下脱保护，Trt也能被催化氢解脱去。

11. DMB(2,4-二甲氧基苄基)

  DMB是较稳定的氨基保护基之一, 对催化氢解较Cbz、PMB和Bn稳定，故用H2/8%Pd-C/EtOH处理，则可除去Bn，而保留N-DMB。用Pd(PPh3)4/HOAc/THF处理，则可除去Alloc，而保留N-DMB。

Protection:

Deprotection:

  DMB容易用酸脱去，如用TFA, TosOH或HCl的有机溶液在0℃或室温即可顺利除去。采用TFA/i-Pr3SiH/CH2Cl2时，N-Fmoc不受影响。其他如DDQ/CH2Cl2也能很方便脱去DMB，而叔丁酯和N-Boc不受影响。

12. Pmb(对甲氧基苄基)

  对甲氧基苄基（Pmb）是也最稳定的氨基保护基之一。它对大多数反应都是稳定的，在Bn存在下，可用CAN（硝酸铈铵）或DDQ（二氯二氰基苯醌）氧化选择脱Pmb；同样，在Boc和叔丁酯存在下，可用CAN氧化选择脱Pmb；也可用H2/Pd(OH)2去掉Bn，而保留Pmb。

Protection:

Deprotection:

  除了常规的催化氢解外，CAN，DDQ氧化去保护或者在TFA中加热脱保护

13. 苄基(Bn)

  苄基（Bn）是最稳定的氨基保护基之一，同PMB一样，对大多数反应都是稳定的，但比PMB更加稳定，因而也更难脱除。

Protection:

Deprotection:

  Bn常用催化氢解脱去，如H2/20%Pd(OH)2/C 、H2/Pd-C、H2/PdCl2、Pd/HCOOH或Pd-C/HCOOH、Pd-C/HCOONH4、Pd-C/NH2NH2或Pd-C/环已烯作氢源转移氢化

  用H2/Pd-C去保护通常很慢，除非添加Boc2O促进Bn的离去

  此外也可在CCl3CH2COCl/CH3CN、Li/NH3、Na/NH3、CAN和CH3CHClOCOCl条件下脱保护

参考资料：

  百度文库，链接：https://wenku.baidu.com/view/83eb4b726294dd88d0d26bd7.html